四路质子混气管式PECVD

四路质子混气管式PECVD系统为了使化学反应能在较低的温度下进行，利用了等离子体的红心过来反应，因而这种CVD成为等离子体增强化学气相沉积（PECVD）,内炉膛采用国内的氧化炉陶瓷纤维可以设备加热效率，同事也可以延长仪器的使用寿命。

主要特点：虽环境温度在100-300℃，但反应气体在辉光放电等离子体中能受激分解，离解和离化，从而大大了反应物的。因此，这些具有反应祸心个点中性物质很容易被吸附到较低温度的基本表面上，发生非平衡的化学反应沉积生成薄膜。

PECVD法是用500w交流等离子体与60*1200、多通道精密质量流量计和高真空系统气体组成。

实验机理：辉光放等离子体重，电子密度高，电子气体温度比普通气体分子温度高出10-100倍。

本炉子分为四大部分：开启式管式炉，等离子射频电源（50-500w），真空泵和阀门、质子流量计。