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蒙脱石是由颗粒极细的含水铝硅酸盐，较早的资料就有资料记载其具有药用效果，如在《本草纲目拾遗》中介绍膨润土可用于治疗外伤和解毒，并将其归纳为中药的一种。蒙脱石混悬液由主药蒙脱石、助悬剂、矫味剂等组成，用于治疗腹泻及消化道溃疡等效果显著。其具有服用剂量准确、服用携带方便、粒度较细、服用后可快速均质到人体消化道、效果更好等多种优点。鉴于此，我们拟将蒙脱石制备成混悬剂以克服上述蒙脱石散剂的缺点。混悬液的制备原则首先是使粉粒润湿并在液体均质介质中均匀均质，保持一定条件使其尽量不聚集，然后采取一定的措施防止结块。
 制备方法通常混悬液的有两种：均质法和凝聚法。由于蒙脱石本身的性质我们采用的是均质法，混悬液中微粒的大小不仅关系到混悬液的质量和稳定性，也会影响混悬液的药效和生物利用度。所以测定混悬液中微粒大小及其分布，是评定混悬液质量的重要指。由于本研究的蒙脱石采用的是法国益普生公司研制的商品名为思密达的蒙脱石散剂，故其微粒大小符合要求，无需测其微粒大小。

当蒙脱石混悬液的工艺配方确定时，为了降低沉降系数，我们可以通过减小粒子的半径来缩小沉降系数。蒙脱石混悬液粒径的细化，取决于均质设备的选择。如果采用IKN研磨均质机的话，不仅可以对蒙脱石混悬液粒径进行细化，还可以将混悬液均质的更均匀。这取决于上海依肯研磨均质机的特殊设计，IKN研磨均质机将胶体磨和均质机合二为一，先研磨细化粒径，再对物料进行均质，使蒙脱石混悬液更加细腻、均匀、稳定。

CMD2000模块化设计主要由两层分散头构成，工作时，物料通过投料口进入分散腔，首先到达层分散头进行处理，由于马达带动转子齿列高速运转，产生涡流和离心力效应使得物料轴向吸入分散头，然后沿着定-转子之间的缝隙被高速压出完成次剪切作用，之后在转子齿列与定子齿列的强力剪切间隙中物料被强烈撕裂后从定子齿列缝隙中流出时完成第二次剪切，接着流出的物料进入第二层分散头腔体，对处理过的物料再次进行剪切（原理同上），从而确保混合分散获得很窄的粒径分布，获得更小的液滴和颗粒，生成的混合液稳定性更好，满足生产时对于粒径的要求。

CMD2000系列研磨分散机的结构：研磨式分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产品。蒙脱石混悬液均质机

第yi级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。

第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为 在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗、中等、细和其他一些工作头类型之间的区别不光是指定转子齿的排列，还有一个很重要的区别是 不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例，依据以前的经验指定工作头来满 足一个具体的应用。在大多数情况下，机器的构造是和具体应用相匹配的，因而它对制造出zui终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。

从设备角度来分析，影响研磨分散机效果因素有以下几点：

1.研磨头的形式（批次式和连续式）（连续式比批次式要好）

2.研磨头的剪切速率，（越大效果越好）

3.研磨的齿形结构（分为初齿、中齿、细齿、超细齿、越细齿效果越好）

4.物料在分散墙体的停留时间、研磨分散时间（可以看作同等电机，流量越小效果越好）

5.循环次数（越多效果越好，到设备的期限就不能再好了。）

线速度的计算：

剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
               g 定-转子 间距 (m)

由上可知，剪切速率取决于以下因素：

转子的线速率

在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。 
IKN 定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D（转子直径）X 转速 RPM  /   60

 所以转速和分散头结构是影响分散的一个zui重要因素，超高速分散均质分散机的高转速和剪切率对于获得超细微悬浮液是zui重要的

CMD2000系列研磨分散机设备选型表
 

 流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，可以被调节到zui大允许量的10%

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