快速退火炉LRTP-1200，采用红外辐射加热技术，可实现大尺寸样品（4英寸）快速升温和降温，同时搭配温度控制系统，可的温场均匀性，对材料的快速热处理(RTP)、快速退火(RTA)、快速热氧化(RTO)、快速热氮化(RTN)等研究工作起到重要作用。

快速退火炉应用方向

快速热处理，快速退火，快速热氧化，快速热氮化

离子注入/接触退火

SiAu, SiAl, SiMo合金化

太阳能电池片键合

电阻烧结

低介电材料热处理

晶体化，致密化

其他热工艺需求

快速退火炉产品特点

可测大尺寸样品  可测单晶片样品的尺寸为4英寸（100mm）。

快速控温与高真空  升温速率可达100℃/s，真空度可10Pa。

程序设定与气路扩展   多可创建和存储32个程序、8个PID设定，实现不同温度段的精准测试。多可扩展至4条工艺气路（MFC），应用不同气氛环境（真空、氮气、氩气、氧气、氢氮混合气体等）。

全自动智能控制  采用全自动智能控制，包括温度、时间、气体流量、真空、气氛、冷却水等均可实现自动控制。

系数   采用炉门温度开启保护、温控器开启权限保护以及设备急停保护三重措施，保障仪器使用。

快速退火炉技术参数