设备技术介绍：

2-1：UV紫外线——列解

由于半导体的光吸收阈值与带隙具有式K=1240/Eg(eV)的关系,因此常用的宽带隙半导体的吸收波长阈值大都在紫外区域。当光子能量高于半导体吸收阈值的光照射半导体时,半导体的价带电子发生带间跃迁,即从价带跃迁到导带,从而产生光生电子(e-)和空穴(h+)。此时吸附在纳米颗粒表面的溶解氧俘获电子形成氧负离子,而空穴将吸附在催化剂表面的氢氧根离子和水氧化成氢氧自由基。而氧负离子和氢氧自由基具有很强的氧化性,能将大多数的物氧化至终产物CO2和H2O,甚至对一些无机物也彻底分解。

2-2：172微波——内部穿透发热，拆分分子结构

172光波利用紫外光照射物表面，172波长的紫外光被物体表面吸收后，物分子结构的DNA核酸产生大量的热量，分子链吸收光波涨大断裂，而大气中的氧气在吸收了波长为172nm的紫外光子后氧分子的原子氧其活泼，这些原子氧会与被切断的物原子结合，并将之游离成的氧能基（如-OH，-CHO，-COOH），分子的再次新组合。

2-3：后通过足量的臭氧进行氧化——生成二氧化碳和水

臭氧去除污染物的基本过程

· 过程一：电子的直接轰击

· 过程二：O原子或臭氧的氧化

O₂+e→2O

· 过程三：OH自由基的氧化索                H₂O+e→OH+H

H₂O+O→2OH

H+O₂→OH+O

2-4：后通过足量的臭氧进行氧化——生成二氧化碳和水

废气→微波+光解＋O2→O-+O＊(氧)O+O2→O3→CO2+H2O(达标排放),

产品技术原理：

产品先利于强172微波对废或无机废气进行快速列解分裂打短，有害气体分子对UV紫外线光束的吸收，UV光束裂解恶臭气体中细菌的分子键，破坏细菌的核酸（DNA），由于有一部分物质分子结构是环状多链式的稳定，未打断分子结构的这一部物质再通低温压电击电解分子分裂，在分子分裂后由于设备185臭氧光束分解空气中的氧分子产生游离氧，即氧，因游离氧所携正负电子不平衡所以需与氧分子结合，进而产生大量臭氧。UV+172微波+电离+O2→O-+O*(氧)O+O2→O3(臭氧),众所周知臭氧对物具有强的氧化作用，对恶臭气体及其它刺激性异味有强的清除效果。后通过臭氧发生器制造的氧离子对废气进行氧化，让废气生成二氧化碳和水的效果。由于臭氧对物具有强的氧化作用，对恶臭气体及其它刺激性异味有的清除效果。

2-5：废气处理工艺总流程：

UV紫外线（列解）+172微波（内部穿透发热，拆分分子结构） +臭氧进行氧化 = 二氧化碳+水

安装注意事项：

3-1：装卸货：设备运到工地卸货时，须小心碰撞掉摔，当产品要移动位置时不能硬拖硬撬，以撞坏设备内的玻璃灯管发生器。

3-2：设备空间：须有的更换发生器以及过滤器的位置。