NANO MASTER(那诺-马斯特)提供离子束刻蚀和反应离子束刻蚀，可以应用于表面清洗、表面处理、离子束研墨、光栅刻蚀，以及SiO2，Si及金属的深槽反应离子束刻蚀。型号包含NIE-3000，NIE-3500，NIE-4000。

IBE/RIBE离子束刻蚀/反应离子束刻蚀

        如铜和金等金属不含挥发性化合物，这些金属的刻蚀无法在RIE系统中完成。然而通过加速的Ar离子进行物理刻蚀则是可能的。通常情况下，样品表面采用厚胶作为掩模层，刻蚀期间富有能量的离子流会使得基片和光刻胶过热。除非可以找到有效的方式消除热量，否则光刻胶将变得非常难以去除。

        NANO-MASTER(那诺-马斯特)技术已经证明了可以把基片温度控制在50° C以内的同时，旋转晶圆片以达到想要的均匀度。

产品特点：

• 14.5”不锈钢立体离子束腔体

• 16cm DC离子枪1000eV,500mA, 气动不锈钢遮板

• 离子束中和器

• 氩气MFC

• 6”水冷样品台

• 晶片旋转速度3、10RPM，真空步进电机

• 步进电机控制晶圆片倾斜

• 手动或自动上晶圆片

• 典型刻蚀速率：铜200 ?/min, 硅：500 ?/min

• 6”范围内，刻蚀均匀度+/-3%

• 极限真空5x10-7Torr，20分钟内可达到10-6Torr级别（配套500 l/s涡轮分子泵）

• 配套1000 l/s涡轮分子泵，极限真空可达8x10-8Torr

• 磁控溅射Si3N4以保护被刻蚀金属表面被氧化

• 基于LabView软件的PC计算机全自动控制

• 菜单驱动，4级密码访问保护

• 完整的安全联锁

IBM离子铣/RIBE反应离子束刻蚀

产品特点：

• 低成本

• 离子束：高达2KV/10mA

• 离子电流密度100-360uA/cm2

• 离子束直径：4”,5”,6”

• 兼容反应及非反应气体(Ar, O2, CF4,Cl2)

• 极限真空5x10-7Torr

• 260l/s涡轮分子泵，串接500 l/min干泵

• 14”不锈钢或铝质腔体

• 水冷旋转/倾斜样品台(NIE-3500)

• 自动上片（NIE-3500）

• 基于LabView软件的PC计算机全自动控制

• 占地面积30”x30”

产品应用：

• 表面清洗

• 表面处理

• 离子铣

• 带活性气体的离子束刻蚀

• 光栅

• SiO2，Si和金属的深槽刻蚀