NANO MASTER(那诺-马斯特)先进的兆声无损处理设备，主要包含SWC单晶圆/掩模版清洗系列和LSC大基片清洗系列，支持湿法清洗/去胶/刻蚀应用。型号包含SWC-3000，SWC-4000，SWC-5000，LSC-4000，LSC-5000。

清洗及工艺技术

        NANO-MASTER(那诺-马斯特)兆声单晶圆及掩模版清洗机提供高可重复性、高均匀性及先进的兆声清洗。它可以在一个工艺步骤中包含了的无损兆声清洗、化学试剂清洗、刷子清洗以及干燥功能。

        为了实现基片无损情况下的程度的清洗优化，兆声能量强度必须确保稍稍低于样片上的任何点的受损阈值。NANO-MASTER(那诺-马斯特)的技术可以确保兆声能量均匀分布于整个基片表面，可以做到分布能量化的同时又确保稍低于样片受损阈值，从而实现理想的清洗效果。

根据不同的应用，某些选配件将会进一步提高设备的能力，达到更好的去除不想要的颗粒和残留物的效果。

        NANO-MASTER(那诺-马斯特)兆声单晶圆及掩模版清洗机提供高可重复性、高均匀性及先进的兆声清洗。它可以在一个工艺步骤中包含了的无损兆声清洗、化学试剂清洗、刷子清洗以及干燥功能。

        为了实现基片无损情况下的程度的清洗优化，兆声能量强度必须确保稍稍低于样片上的任何点的受损阈值。NANO-MASTER(那诺-马斯特)的技术可以确保兆声能量均匀分布于整个基片表面，可以做到分布能量化的同时又确保稍低于样片受损阈值，从而实现理想的清洗效果。

根据不同的应用，某些选配件将会进一步提高设备的能力，达到更好的去处不想要的颗粒和残留物的效果。

        单晶圆/掩模版清洗机型号 SWC-4000 和 SWC-3000

应用：

• 有图案和无图案掩模版及晶圆片

• Ge, GaAs和InP晶圆片清洗

• CMP化学机械抛光后晶圆片清洗

• 晶圆片框架上的切片小芯片清洗

• 等离子刻蚀或光刻胶剥离后的清洗

• 带保护膜的分划板清洗

• 掩模版空白处或接触掩模版清洗

• X射线及极紫外掩模版清洗

• 光学镜头清洗

• 带ITO涂层的显示面板清洗

• 兆声辅助的玻璃工艺

SWC-4000产品主要特点：

• 12”外径或7”x7”基片

• 独立的系统单元

• 无损兆声，化学试剂，刷子清洗和旋转甩干

• 微处理器控制

• 化学试剂分发单元

• 溶剂和酸分开排放

• 热氮

• 30”深 x 26”宽的占地面积

SWC-4000选配项：

• 掩模版或晶圆片托盘

• 臭氧清洗

• 刷子清洗

• 高压去离子水清洗

• 氮离子发生器

SWC-3000产品主要特点：

• 台式单元

• 无损兆声掩模版或晶圆片清洗

• 12”圆片，9”方片

• 微处理器控制

• IR红外灯

• SWC-3000选配项：

• 掩模版或晶圆片托盘

• 刷子清洗

• 化学试剂清洗(CDU)

• 氮离子发生器

大基片清洗机型号LSC-4000

LSC-4000应用：

• 硅片

• 蓝宝石片

• 晶圆框架上的芯片

• 显示面板

• ITO涂敷的显示屏

• 有图案及无图案掩模版

• 掩模版空白处

• 带保护膜的分划板

• 接触掩模版

LSC-4000产品主要特点：

• 21”外径，15”x15”基片

• 450mm晶圆片

• 带兆声的大环境腔体

• DI，刷子，热N2

• 化学试剂滴胶臂

• 带化学试剂滴胶的不同转速的刷子

• PC控制的系统，带Labview软件

• 触摸板用户界面

• 手动放片取片

• 安全联锁及报警

• 30”D x 26”W占地面积

LSC-4000选配项：

• 化学试剂输送模块

• Piranha溶液清洗

• 臭氧化去离子水(20ppm的O3)

• 氢化的去离子水

• 高压去离子水

• 加热的去离子水

• 溶剂和酸分开排放

• 红外加热

• 去离子水循环器

• 耐火立柜

• 带EFM以及SMIF界面的机械手载片/取片