MultiPrep™系统适用于高精微（光镜，SEM，TEM，AFM，etc）样品的半自动准备加工。主要性能包括平行抛光，角抛光，定址抛光或几种方式结合抛光。它保证良好的重现性，可以解决多用户使用的矛盾。MultiPrep 无须手持样品，保证只有样品面与研磨剂接触。
　　TechPrep™为MultiPrep™的定位装置提供电源。人性化的控制面板设计控制MultiPrep™所有功能。研磨盘转速范围（顺/逆时针）为5到350PRM.除触摸开关控制所有功能外，还有数字触摸键盘用于设置研磨盘速度、计时器、摆动与旋转设置。此系统用水符合冷却标准；自动滴液给料系统适用研磨悬浮液和润滑剂。
　　特点：
　　
　　测微计控制样品的设置
　　
　　轴设计保证样品垂直于研磨盘，使之同时旋转。
　　
　　数字千分表显示样品行程，增量1微米。（实时）
　　
　　双轴测微计控制样品角坐标设置（斜度和摆度），10°幅度，0.02°增量。
　　
　　6倍速样品自动摆动。
　　
　　8倍速样品自动旋转。
　　
　　样品调整范围：0-600克（100克增量）
　　
　　数字记时器与转速计
　　
　　凸轮锁紧钳无需其他辅助工具，方便用户重新设置工作夹具。
　　
　　符合CE标准
　　
　　美国设计并制造