氧气纯化设备
价格:电议
地区:苏州市 江苏省
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  实验室氧气纯化装置氧气纯化设备本装置以工业普氧为原料气,经催化冷却,二级吸附,精密过滤的方法除去氧中微量杂质氢,甲烷,一氧化碳,二氧化碳,水汽和尘埃获得高纯度的氧气。
  本产品结构简单,系统气密性良好,所用催化剂(可视原料气的杂质含量来调整工作温度)可长期使用无需再生,二级双塔并联结构的干燥器延长了干燥器再生时间,再生设定周期168小时,节能高效,限度的保证了纯气的品质,高效吸附剂可在产品内再生后重复使用。适用于需要大量高纯氧气半导体、光纤、显像管等主要生产部门。
  
  实验室氧气纯化装置氧气纯化设备技术指标
  原料气:液氧
  处理气量 10Nm3/h
  工作压力 0.4-0.8Mpa
  原料氧的纯度:>99.5%
  纯化后:CH4<0.3ppm CO2<0.2ppm
  H2O<0.5ppm 尘埃颗粒≤3.0粒/升(100级)
  装机功率:380V 5KW
  二、装置组成
  1.反应器 1台
  2,冷却器 1台
  2.干燥器 4台
  3.精密过滤器 1台
  4.材质含阀门,管路为不锈钢
  5.电气系统(含温度调节仪)1台
  6,触摸屏西门子
  7,PLC 西门子
  氧气多数是从液态空气中制取的,其中含有微量的水、氮、二氧化碳及一些惰性气体。氧气的纯化有低温精馏法、催化反应法和吸附法。一般采用氯化钙、105催化剂、分子筛注液氮冷阱和下班滤球去除其杂质,将低纯度的氧净化为高纯度的氧。GB/T14599《高纯氧》国家标准要求高纯氧的主要技术指标应达到下表的要求
  高纯氧的主要技术指标
  项目  指标
    优等品  一等品  合格品
  氧纯度/%               ≥  99.99  99.98  99.995
  氩含量/10-6             ≤  2  5  10
  氮含量/10-6             ≤  5  10  20
  二氧化碳含量/10-6       ≤  0.5  1  1
  总烃含量(以甲烷计)/10-6≤  0.5  1  2
  露点/℃                ≤  -72  -70  -69
  水分含量/10-6           ≤  (2)  (2.5)  (3)
  
  本产品结构简单,系统气密性良好,所以催化剂可长期使用无需再生,吸附剂可在产品再生后重复使用。
  此外氧气在金属切割及焊接等方面也有着广泛的用途。
  本系列中压氧气纯化装置适用于需要大量高纯气体的半导体,光纤,显像管等主要生产部门氩气纯化器采用镍合金微孔滤膜,不锈钢外壳,去除气体中的尘埃粒子,进出口为法兰连接或螺纹连接。具有过滤高、气密性好、流量大、阻力小、强度好、易再生、寿命长等特点。适用与科研、生产部门作为各种非腐蚀性气体的终端过滤装置。广泛应用于精密机械、半导体器件电真空器件、半导体材料光导纤维等生产工艺
  冶金工业
  在炼钢过程中吹以高纯度氧气,氧便和碳及磷、硫、硅等起氧化反应,这不但降低了钢的含碳量,还有利于清除磷、硫、硅等杂质。而且氧化过程中产生的热量足以维持炼钢过程所需的温度,因此,吹氧不但缩短了冶炼时间,同时提高了钢的质量。高炉炼铁时,提高鼓风中的氧浓度可以降焦比,提高产量。在有色金属冶炼中,采用富氧也可以缩短冶炼时间提高产量。