特点：
　　1、采用独特的磁路设计，突破传统模式，更符合磁控溅射的理念。
　　2、采用独特的结构设计，冷却充分，可满足大功率、大电流使用要求。
　　3、更高的溅射率，离子密度更强。
　　4、更高的利用率，高达70以上。
　　5、尺寸范围：靶材外尺寸70、100、150、250，保持一致的均匀性
　　6、使用范围：如TI、AL、NI、CR、AZO、ITO等。
　　使用领域：装饰镀、工具镀、ITO、光伏、LOE-E玻璃等。