电子显微镜样品制备过程中，在样品进行离子减薄之前，必须将其抛磨至40μm以下的厚度，然后才能进行离子减薄或双喷减薄。试样抛磨器及精密抛磨仪是专为解决这一令人头痛的问题而设计的，它积累了设计者在透射显微镜TEM样品制备过程中多年来积累的经验，较好地解决了制样的倒角问题。该设备主要适用于金属、陶瓷及半导体等固体材料的TEM样品在离子减薄前对样品预减薄与抛光。同时，也适用于金相样品的磨制及抛光。