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离子刻蚀设备
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可加工尺寸 5英寸
基片台冷却水冷+氦气背冷
可刻蚀材料硅基材料及金属
腔室尺寸 225mm谲350mm
真空系统 620L/S分子泵+8L/S干泵
极限真空 5.0×10-4Pa
电源系统 13.56MHz、1000W射频电源,自动匹配、自动控制;13.56MHz、500W射频电源,自动匹配。 压力控制 MKS压力控制系统、下游流量控制
气路 6路流量控制器,全自动控制、全自动现实并记录流量参数
控制系统一体化工业控制器
系统软件 ICP定制控制软件
报警及保护对电极缺水、过流过压、断路等异常情况进行报警并保护
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