双盘台式金相磨抛机DT-4
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地区: 上海市
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   DT-4双盘台式金相磨抛机(以下简称磨抛机)是一种研磨设备,它利用各种不同粒度的耐水研磨金相砂纸,对各种金属及其合金试样以及各种岩相试样进行粗磨、精磨、干磨 、湿磨等各道研磨工序,作抛光前的粗加工工序,同时可作抛光试样。可性完成磨抛工作,起到一机多用的好处。
技术参数
1、磨盘直径 230mm
2、磨盘转速 320-500r/min,660-1000r/min
3、电动机功率  250W、370W
4、电源电压  220V, 50HZ
5、外形尺寸  730×650×330mm
6、重 量 78kg
结构特征概述
   磨抛机是以交流双速电动机为动力,通过连接轴驱动磨盘平稳的运转。磨抛机由四档研磨速度为320/500转/分、660/1000转/分。磨抛机采用台式结构,结构轻巧。本机型有不锈钢外壳的机型,外形新颖美观,是实验室理想的设备。另外本机可根据用户要求,订制抛光盘,利用抛光材料可进行试样的抛光,是研磨、抛光廉用型。    磨光
  磨光是试样制备程序中的重要阶段之一,其目的是清除试样截取过程中所产生的损伤。如果损伤太严重,在未受影响区以较温和的切削方法重新截取。在磨削本身也会造成损伤,但必须限制在随后以细磨料磨削时可以消除的程度。在磨光的后期,仅有的磨削损伤必须在后的磨削步骤中消除,在磨削过程中造成的损伤(如划痕)很难甚至不可能有抛光来消除。
  起始磨粒号,决定于表面粗糙度以及截取的损伤探伤度,本试验的试样用剪板机剪切,再用砂轮打磨,因此选择200号砂纸开始打磨。
  对于软材料,尤其像钎料这种低熔点合金的材料,磨光时要避免砂纸发热的损伤,必须采用湿磨。湿磨使金属截留入磨粒的机会减少,且更充分的暴露试样,促进切割而不致烧糊表面。湿磨可以冷却试样,降低可导致真实组织变化的摩擦热,湿磨主要采用水作为冷却剂和润湿剂。湿磨还能将磨面上的松散磨料和磨削冲走,从而降低其嵌入试样表面的倾向。对于软钎料,磨光过程中磨粒很容易嵌入试样表面,给后续的抛光工序带来很大的麻烦,另外,嵌入的磨粒还可能被误当成非金属夹杂,影响金相的真实面貌。所以,磨光过程中除了消除深层划痕外,还需要注意磨粒的嵌入。
  磨削试样时,为了能观察磨痕是否消除,后道磨削的方向应与前道磨痕方向相垂直,或者保持45o~90o的夹角。这样做不仅磨削效果好,而且可以减少每道工序的时间,提高磨光的效率。大多数材料每道工序所需要的标准时间约为1~2min,钎料试样可以遵循这个标准。
  对于软钎料材料,施加的压力要小,尤其是后的工序(1000号砂纸),施加的压力要尽可能的小,以避免造成深划痕和磨粒嵌入。另外要保持磨面在一个平面上,不能把观察面磨成曲面,否则将影响显微照相的效果。
另外,每道磨削工序之间,试样表面须经流水短时冲洗并擦干,以防止下道工序中较细的磨粒受上道工序游散磨粒的污染。
   注:在磨光时,有几点要注意:
  对于软合金样品,一定要保证制样所用砂纸是新的或是磨过同一样品的,即砂纸的专有性。因为合金硬度低,很小的砂粒或是其它砂粒(例如金属颗粒,树脂颗粒)都可能嵌入合金造成坑陷,而且这些影响显微组织观察的颗粒很难在后续的过程中除掉,甚至会越陷越深。
  磨光过程中的用力一定要均匀,力求观察面始终为一平面,否则其一会使抛光过程中的力度极难掌握,换句话说就是不大可能抛出好的样品;其二是在显微镜观察过程中,由于观察面不平造成成像有虚有实,影响照片质量,使之缺乏说服力。
  尽量避免用小直径的套筒镶样,对于软钎料来讲,为了有利于的把握力度,避免磨削抛光过程中带来的缺陷,经过多次反复试验,推荐使用d=23—30mm;h=25mm的黄铜管。