紫外光臭氧清洗系统
　　THEMIS深度紫外臭氧清洗与反应系统，是一部应用深度紫外辐射（主要光波是184.9nm及253.7nm）达到表面原子级洁净以及对物件产生光清洗、光化学反应、光改质等效应的科学设备，由中科院与芬兰资深合作设计，重要部件的制造以及调校由航天部工程师亲自完成。
　　产品参数介绍：
　　型号  UVO-4  UVO-8
　　UV光波  253.7nm和184.9nm
　　清洗面积  12cm×12cm（4.5inch）  20cm×20cm（8inch）
　　光照强度  达50mW/cm2，实时显示
　　时间设置  0-9999s任意设置，实时数字显示
　　温度监视  0.1℃，实时数字显示，可平滑控制
　　物台调高  范围：0mm～35mm，：1mm
　　灯管材质  固态金属双波汞灯
　　灯管功率  125W  250W
　　灯管形状  格栅式灯管
　　灯管寿命  10000小时
　　整机尺寸  550mm宽×310mm高×670mm长
　　警示保护功能  有
　　臭氧排风系统  有
　　电源参数  220V/AC/50Hz
　　整机功率  150W  280W
　　整机重量  25KG
　　应用领域  ITO玻璃、光学玻璃、铬板、掩膜板、抛光石英晶体、硅晶片和带有氧化膜的金属等进行精密清洗处理，液晶显示器件、半导体硅晶片、集成电路、高印制电路板、光学器件、石英晶体、密封技术、带氧化膜的金属材料等有机物去除，有机性污垢、人体皮脂、化妆品油脂、树脂添加剂及聚酰亚胺、石蜡、松香、润滑油、残余的光刻胶等。还能对特定材料进行表面改性，增加浸润性。