CEW－4000微机控制荧光磁粉探伤机。
　　二、设备设计依据：
　　2.1、按照JB/T6065，GB/T3721--83及JB/T8290--1998标准执行；
　　2.2、按照ISO9001质量体系对磁粉探伤机的设计程序文件执行；
　　2.3、根据需方工件的磁粉探伤工艺需求执行。
　　三、探伤工件类型及尺寸：  
　　3.1、类型：通用铁磁性材料叶片类工件；
　　3.2、工件长度：1500mm；
　　3.3、截面尺寸：20mm～150mm.
　　四、设备总体要求：
　　CEW-4000微机控制荧光磁粉探伤机系机电一体式结构、微机控制荧光磁粉探伤设备。主要由磁化电源、电气控制系统、夹持磁化系统、旋转观察系统、磁悬液喷洒及回收系统、荧光探伤系统、退磁装置等几部分组成。适用于以湿式磁粉法检测由铁磁性材料制成的工件表面及近表面因材料、锻造、加工、疲劳等各种原因引起的裂纹和各种细微缺陷。
　　  该设备由进口可编程控制器（PLC）对设备进行集中控制。工件经人工上料后，通过脚踏夹紧机构实现工件夹紧，进而进行喷淋、复合磁化、转动观察、脚踏松开等一系列动作；在床身中部配置简易操作控制盒，方便操作。交流磁化均带断电相位控制，具有较高的剩磁稳定度，既适用于连续法探伤检测，又适用于剩磁法探伤检测。
　　该设备具有自动化程度高、检查速度快、操作人员劳动强度低、工作可靠、可扩展性强等特点。

　　五、设备主要技术参数：
　　5.1、磁化方式：周向、纵向、复合三种磁化方式；
　　5.2、周向磁化电流：AC：0-4000A有效值，数显连续可调，带断电相位控制；
　　5.3、纵向磁化磁势：DC：0-22000AT平均值，数显连续可调，带断电相位控制；
　　5.4、暂载率：≥30％；（确保设备能够3班连续工作）
　　5.5、工作节拍：探伤时间和工艺过程可根据需方实际需要，程序可调整；
　　5.6、电极间距：1600mm，连续可调；
　　5.7、夹紧方式：脚踏机构夹紧；
　　5.8、工作方式：手动和自动（自动工作程序可按用户要求进行编程）；
　　5.9、退磁方式：自动衰减式退磁；
　　5.10、周向退磁电流：AC 4000-0A有效值，连续可调；
　　5.11、纵向退磁磁势：AC 22000-0AT有效值，连续可调；
　　5.12、退磁效果：≤0.3mT
　　5.13、探伤灵敏度：A2＃试片（包括圆圈及十字架）均能清晰显示；
　　5.14、紫外线照度：配备一套进口固定式光灯，型号为UV－400，距工件表面380mm处紫外线照度≥6000uw/cm2；
　　5.16、电源：三相四线 380V±10％50Hz 瞬时电流120A；
　　5.17、整机外形尺寸：约1800mm（L）×800mm（W）×2020mm（H）；
　　5.18、窗口面积500mm（宽）×300mm（高）×500mm（深）；
　　5.18、重量：约1200KG.
　　六、设备主要组成：
　　
　　6.1、电气控制系统二套
　　6.2、夹持磁化系统一套
　　6.3、磁悬液喷洒及回收系统一套
　　6.4、荧光探伤系统一套
　　6.5、退磁装置