次大气压下辉光放电的视觉特征呈现均匀的雾状放电，放电的电流电学特征为单脉冲，放电温度为室温。次大气压辉光放电可以处理各种高分子材料、生物材料、金属材料、纺织品材料、异型材料。设备成本低、处理的时间短、可加入各种气氛，气氛含量高、功率密度大、处理效率高。可应用于表面聚合、表面接枝、金属渗氮、冶金、表面催化、化学合成及各种粉、粒、片材料的表面改性和的表面处理。电子和离子的能量可达10eV以上。材料批处理的效率要高于低气压辉光放电10倍以上。
　　
　　规格：
　　1、型号：
　　HPD-100A（空气型）
　　HPD-100B（混合气体型）
　　HPD-100C（混合气体型）
　　2、电源：单相AC220V（±10％）
　　3、功率：500VA；
　　4、电极尺寸：100mm×100mm；
　　5、设备尺寸：620（W）×750（H）×450（D）mm
　　6、设备重量：100kg
　　7、腔体压力：10～1000Pa