型号650Mz-23NPP（美国NIST工业标准）
　　1、产品概述：650S型甩胶机适应于半导体、化工材料、硅片、晶片、基片、导电玻璃等工艺，制版的表面涂覆。MYCRO的MSC系列甩胶机具有稳定的转速和快速的启动，可以保证半导体中胶厚度的一致性和均匀性，这正是650S 型甩胶机的特点。
　　2、甩胶机工作原理：甩胶机（spin coater）的工作原理是高速旋转基片，利用离心力使滴在基片上的胶液均匀的涂在基片上，甩胶机常用于各种溶胶凝胶（Sol-Gel）实验中的薄膜制作，厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同，也和旋转速度及时间有关。
　　
　　匀胶机性能指标及特点：
　　1、该甩胶机采用美国先进技术：
　　2、MSC系列甩胶机采用NPP天然聚丙烯材质构造设计，这种材质有很好的抗腐蚀性和抗化学物性，美观大方；
　　3、甩胶机真空Chuck经精密加工制成，具有良好的光洁度及平整度，保证晶圆片被很好地吸附，主轴采用进口微型单列向心球轴承支撑，轴向有弹性垫及调整垫，可保障主轴具有较高的。
　　4、智能型调节匀胶工作时间，1秒至99分59.9秒任意范围，小时间增加0.1秒；
　　5、650S 型甩胶机大致有两个转速范围，主轴转速范围宽，加速度高。阶段，通过500~1000RPM的转速，旋转5~10秒钟，使胶液得以平铺开，而胶液厚度主要通过第二阶段的速度变化来控制，一般转速在1500RPM~6000RPM，旋转时长从几秒钟到几分钟，如此既可以得到几百个纳米到数十个微米之间的均匀薄膜，也是可以无极变速的。根据旋涂的需要设定不同的转速，对不同的材料进行均匀的涂膜。
　　
　　6、高数码控制器，美国MYCRO甩胶机的数码速度控制器采用的是一个高计数位的光学编码器输入至伺服马达控制器，其设置点小于0.006%。通过PLC控制系统，运行干扰小，可靠性高。人机交互按键显示操作，界面友好，更直观便捷，用户可灵活编制、储存、调用和修改工艺参数。甩胶机可以设定多达20个程序段来存储不同材料的制备过程，每个程序段都能设定51步速度改变，当前参数具断电保护功能。MSC-650S系列，除了对于转速的精密控制以外（转速范围1~12000转/分，分辨率小于0.5转/分，可重复性小于±0.5转/分，加速度可达80000RPM/S，则可达1RPM/S）。MSC-650S型可以通过USB通讯接口连接电脑，以及随机附带的SPIN3000分析软件进行功能多样的可视化操作。对于每次实验结果进行分析调试，并挑选出的制备过程，所有数据结果都可以通过电脑输出并予以保存，完成从单纯旋转机器到旋涂仪器的升级。
　　
　　7、高甩胶机加速度和速度的稳定性：标准速度范围100-12，000转/分钟（RPM）［分辨率：<0.5转/分钟（RPM）可重复性：±0.5转/分钟，经美国国家标准技术研究院（NIST）过的，并且无需再校准！］
　　8、在安装结构上，采取了减振措施，保证了在运转时噪音很低，保证涂覆表面均匀，保证通过调节转速调节涂覆厚度。
　　9、甩胶机腔体配备吹氮（N2）功能，或压缩空气、氮气压力可通过调压阀和节流阀实现调节，与配套真空泵一同使用。需要更详细的关于MYCRO的MSC系列甩胶机方面的产品咨询。