品牌：恩科优（N＆Q）
　　型号：NXQ400-6
　　
　　一、产品简介：
　　MYCRO原装进口恩科优N＆Q系列光刻机（Mask　Aligner），是的光刻系统，在光刻领域有超过35年的经验。广泛应用于半导体、微电子、生物器件和纳米科技领域。如美国航空航天公司、美国朗唐纳、飞利浦、摩托罗拉、惠普、美国国家半导体公司、美国国际整流公司、斯坦福大学、美国加州大学伯克利分校、伦敦大学、台塑、墨尔本大学、华盛顿州立大学、方大集团股份有限公司、大联大集团、厦门乾照光电股份有限公司等等。
　　
　　恩科优光刻机分为半自动和全自动两大系列。其中，N＆Q4000系列光刻机是以半自动系统为主。该系统优越的操作性，超高的分辨率，均匀的光学系统，现代先进的接近式和接触式光刻及超高的性价比，使恩科优光刻系统已经被全国各地众多企业、研发中心、研究所和高校采用，并成为他们光刻系统的；
　　
　　二、技术参数：
　　1、曝光面积：5mm~150mm
　　2、分辨率：0.55微米；
　　3、对准：采用双面对准技术，可达到0.5微米；
　　4、光强均匀度：达到＋/-3%（4英寸）和＋/-4%（6英寸）。
　　5、曝光模式：支持接近式曝光，各种接触式（真空接触、软接触、硬接触等）曝光；
　　a、接近式曝光特征尺寸：
　　1um＠Gap为20　um；
　　2um＠Gap为50　um；
　　b、接触式曝光特征尺寸：
　　0.35um＠深紫外DUV；  
　　0.5um＠近紫外NUV；
　　0.6um＠紫外UV；
　　更广范围（UV，DUV，NUV）的紫外光波长选择，出射光强范围：8mW/cm2~40mW/cm2
　　支持恒定光强或恒定功率模式；
　　6、掩膜尺寸：2　x　2英寸到　9　x　9英寸（2　x　2英寸需要掩膜转换器）；
　　7、样片尺寸直径：5mm~150mm的圆片/方片和不规则碎片（支持对不规则碎片的特殊卡盘设计）；
　　8、厚度：10mm
　　9、光强均匀性Uniformity：
　　<±1%over　2"区域；
　　<±2%over　4"区域；
　　<±3%over　6"区域；
　　10、汞灯功率：350W/500W
　　11、曝光波长：350nm-450nm
　　12、电源：高灵敏度光强可控电源。
　　
　　三、产品特点：
　　可选支持单面对准和双面对准设计；
　　高清晰彩色双CCD镜头采用先进的分裂视场显微镜镜头（基于无限远修正的CCD镜头设计）；双头高清全彩物镜（单视场或分裂视场可供用户灵活选择）；
　　高清彩色双显示屏；
　　全新气动轴承导轨设计，高精准，低磨损，无需售后维护的；
　　具有自动执行楔形误差补偿，并在找平后自动定位功能；
　　操作简易，具有支持多操作员同台使用的友好操作界面；  
　　操控手柄调控模式的独特设计；
　　采用LED穿透物镜照明技术，具有超强对准亮度；
　　采用基于无限远修正的显微镜镜头架构；
　　抗衍射反射的高效光学光路设计；
　　带安全保护功能的温度和气流传感器；
　　全景准直透镜光线偏差半角：<1.84度；
　　设备稳定性，耐用性超高；
　　需要更详细的恩科优光刻机产品资料
　　请与迈可诺技术有限公司中国营销服务中心区域办公室联系！