用途
　　SV-W型磨抛机（以下简称磨抛机）是一种高效能的设备，主要适用于各种金相试样和岩相试样的研磨和抛光，供在显微镜下观察与测定试样的显微组织。
　　磨抛机采用了新的交流变频技术。利用试样保持器，能同时对多只试样实行半自动磨抛操作。
　　　结构特征概述
　　磨抛机以变频器控制的交流电动机为动力，通过联结轴传递到磨抛盘上，从而驱动磨抛盘平稳地运转。磨抛盘具有较大的调速范围，在50-1500r/min范围内可以无极变速，以满足预磨和抛光金相试样时对不同转速的需要。
　　整机由机架、变频器、电动机、磨抛盘、试样保持器和工具等基本部件组成。本机的电源开关、调速旋钮等均安装在机架前面的操作板上，操作方便。工作台面上除装有流水管和磨抛盘外，还装有半自动磨抛试样保持器加压用的边杆、支架等。电气控制装置都安装在机架的左前侧内部，打开箱门可方便地维修。机架的右部设有工具箱。可以放置各种规格的磨抛盘和磨抛试剂等工具。
　　本机备有各种规格的磨抛盘供用户特殊订货。
　　　技术参数
1.磨抛盘直径   Diameter of grinding disk  Φ200mm
2.磨抛盘转速   Revolving speed of disk  50-1500r\min （stepless 无级）
3.电动机       Motor  Y802-4，0.75KW，（B5）
4.电源电压     Power Voltage  220V.A.C,1PH,50Hz
5.外形尺寸     Overall dimensions    770x460x1140mm
6.净重         Net Weight  70kg


PANER品牌经营的磨抛机有：台式双速磨抛机ST-2、台式无极变速磨抛机ST-W  、单盘立式无极变速磨抛机SV-W；双盘四速磨抛机DT-4、双盘台式无极变速磨抛机 DT-W 、双盘柜式无极变速磨抛机DV-W；另外还有磨抛机、全自动磨抛机、半自动磨抛机、手持磨抛机、金相磨抛机、岩相磨抛机、试样磨抛机、磨样机等可以根据客户需要加工定做。

　　　抛光
　　抛光的目的是为了去除金相磨面的由细磨所留下的细微磨痕，使磨面成为无划痕的光滑镜面。对于像Sn-Zn-Bi这样的软钎料，应做到抛光布专用，并分为水抛布和抛光膏抛布。这样可以限度的防止抛光膏的颗粒在抛光过程中嵌入合金造成显微黑斑。
　　粗抛采用2.5号抛光膏（2.5为抛光膏磨粒的粒度）。在抛光时应变换取向，避免拖尾现象，并且注意多停下来用光学显微镜观察。当表面划痕一致时，应更换90o再抛，重复此过程，直到显微镜下观察到细细的且方向一致的磨痕为止。抛光时应注意随时补充水，保持磨面与抛光布之间有一个润滑层，使磨面光滑明亮。
　　细抛分两步：细抛和水抛，细抛时应先将粗抛完的抛光布洗净（注：细抛和粗抛的绒布应分开专用），防止大磨粒和小磨粒相互混杂，影响细抛效果。细抛时用0.5号抛光膏，抛光时水量要大，抛光膏浓度先大后小，直至显微镜下看到的磨痕极细时，可改用清水抛光，直至无磨痕且呈镜面。
　　抛光时间不宜过长，否则会使磨面产生变形层或造成夹杂物曳尾并脱落，甚至破坏整个抛光面。
　　对于Sn合金来说，合金很软，难以抛光。在磨削过程中易形成再结晶表面层，使抛光困难，由于表面层与钎料层的摩擦系数不同，在相同的摩擦情况下，难以同时消除表面层和钎料磨面，由于Sn合金的低熔点性，镶样时采用了冷缩性树脂镶样的方法，在粗抛时抛光布会将树脂碎屑带到钎料抛光面上，在显微镜下观察到这些树脂碎屑在钎料磨面上呈拖尾状。抛光难以将其去除，这是一个较难解决的问题。
　　值得注意的是，本次实验的试样较软，为防止存留在绒布上的较硬颗粒影响抛光效果，从项目的长远效果考虑，应在实验中做到绒布专人专用，实验完毕后应交老师保存，以传递给下一个抛光此类较软试样的同学。