1700℃气相沉积炉
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1700气相沉积炉(CVD炉)

 

HKCVD-1700系统由高温管式炉,高真空扩散泵/分子泵系统,多通道高数字质量流量控制系统,自动压强控制系统等组成。可实现本底真空达0.0010.0001Pa混合气体化学气相沉积和扩散试验。

主要功能和特点

1、真空系统可根据使用要求选择我部扩散泵机组或分子泵机组;

2、在高温试验过程中,可配合压强控制仪控制气体压力实现负压的精准控制;

3、数字质量流量控制系统是由多路质量流量计,流量显示仪等组成,实现气体的流量的精密测量和控制;每条气体管路均配备高压逆止阀,保证系统的安全可靠。

4、采用水冷KF快速法兰密封,装卸方便快捷;管路采用世界Swagelok卡套连接,不漏气;

5、超温、过压时,自动切断加热电源及流量计进气,保证设备及实验的安全性。

主要用途和适用范围:

高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD/CVI实验,特别适用于真空镀膜、纳米薄膜材料制备、纳米线生长等场所。

技术参数

                                                                                                                                                                 
 

HKCVD-1700

 
 

本产品通过欧盟CE

 
 

控温方式

 
 

采用人工智能调节技术,具有PID调节、自整定功能,并可编制50段升降温程序。

 
 

加热元件

 
 

进口1700型优质硅钼棒

 
 

工作电源

 
 

AC220V 50HZ/60HZ

 
 

额定功率

 
 

6KW

 
 

炉管尺寸

 
 

Φ60/80/100*/1000mm

 
 

工作温度

 
 

1600

 
 

温度

 
 

1650

 
 

恒温

 
 

±1

 
 

升温速度

 
 

15/min

 
 

测温元件

 
 

B型热电偶

 
 

密封方式

 
 

不锈钢水冷KF法兰挤压密封

 
 

 

 
 

 

 
 

ZK-F

 
 

ZK-K

 
 

真空范围

 
 

0.1-0.001Pa

 
 

0.1-0.01Pa

 
 

极限真空

 
 

5.0*10^-5Pa

 
 

5.0*10^-4Pa

 
 

产品配置

 
 

双级旋片真空泵+分子泵

 
 

双级旋片真空泵+扩散泵

 
 

冷却方式

 
 

风冷

 
 

水冷

 
 

抽 速

 
 

110L/S

 
 

100L/S

 
 

测量方式

 
 

复合真空计

 
 

真空规管

 
 

电阻规+电离规

 
 

HKCVD-1700-I

 
 

测量范围

 
 

1*10^51*10^-1 Pa

 
 

稳压(真空)范围

 
 

1*10^31*10Pa

 
 

压力(稳定)

 
 

±3%

 
 

控制范围

 
 

2.5*10^35*10^-1 Pa

 
 

控制

 
 

± 1%

 
 

HKCVD-1700-

 
 

控制方式

 
 

D07-7K质量流量计,D08流量显示仪

 
 

流量规格(可订制)

 
 

0500SCCM /01SLM,

 
 

线 性

 
 

±1%F.S.

 
 

准确度

 
 

±1%F.S.

 
 

重复

 
 

±0.2%F.S.

 
 

响应时间

 
 

2sec

 
 

耐 压

 
 

3MPa

 
 

气路通道

 
 

3通道(根据客户需求)

 
 

针 阀

 
 

316不锈钢

 
 

管 道

 
 

Φ6mm不锈钢管

 
 

接 口

 
 

SwagelokΦ6mm