1700℃气相沉积炉
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产品属性
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HKCVD-1700系统由高温管式炉，高真空扩散泵/分子泵系统，多通道高数字质量流量控制系统，自动压强控制系统等组成。可实现本底真空达0.001—0.0001Pa混合气体化学气相沉积和扩散试验。
主要功能和特点：
1、真空系统可根据使用要求选择我部扩散泵机组或分子泵机组；
2、在高温试验过程中，可配合压强控制仪控制气体压力实现负压的精准控制；
3、数字质量流量控制系统是由多路质量流量计，流量显示仪等组成，实现气体的流量的精密测量和控制；每条气体管路均配备高压逆止阀，保证系统的安全可靠。
4、采用水冷KF快速法兰密封，装卸方便快捷；管路采用世界Swagelok卡套连接，不漏气；
5、超温、过压时，自动切断加热电源及流量计进气，保证设备及实验的安全性。
主要用途和适用范围：
高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD/CVI实验，特别适用于真空镀膜、纳米薄膜材料制备、纳米线生长等场所。
技术参数：
| HKCVD-1700 | 本产品通过欧盟CE | ||
| 控温方式 | 采用人工智能调节技术，具有PID调节、自整定功能，并可编制50段升降温程序。 | ||
| 加热元件 | 进口1700型优质硅钼棒 | ||
| 工作电源 | AC220V 50HZ/60HZ | ||
| 额定功率 | ≤6KW | ||
| 炉管尺寸 | Φ60/80/100*/ | ||
| 工作温度 | ≤ | ||
| 温度 | | ||
| 恒温 | ± | ||
| 升温速度 | ≤ | ||
| 测温元件 | B型热电偶 | ||
| 密封方式 | 不锈钢水冷KF法兰挤压密封 | ||
| | | ZK-F | ZK-K |
| 真空范围 | 0.1-0.001Pa | 0.1-0.01Pa | |
| 极限真空 | 5.0*10^-5Pa | 5.0*10^-4Pa | |
| 产品配置 | 双级旋片真空泵+分子泵 | 双级旋片真空泵+扩散泵 | |
| 冷却方式 | 风冷 | 水冷 | |
| 抽 速 | | | |
| 测量方式 | 复合真空计 | ||
| 真空规管 | 电阻规+电离规 | ||
| HKCVD-1700-I | 测量范围 | 1*10^5～1*10^-1 Pa | |
| 稳压(真空)范围 | 1*10^3～1*10Pa | ||
| 压力(稳定） | ±3% | ||
| 控制范围 | 2.5*10^3～5*10^-1 Pa | ||
| 控制 | ± 1% | ||
| HKCVD-1700-Ⅲ | 控制方式 | D07-7K质量流量计,D08流量显示仪 | |
| 流量规格（可订制） | 0－500SCCM /0－1SLM, | ||
| 线 性 | ±1%F.S. | ||
| 准确度 | ±1%F.S. | ||
| 重复 | ±0.2%F.S. | ||
| 响应时间 | ≤2sec | ||
| 耐 压 | 3MPa | ||
| 气路通道 | 3通道（根据客户需求） | ||
| 针 阀 | 316不锈钢 | ||
| 管 道 | Φ | ||
| 接 口 | SwagelokΦ | ||