1200℃气相沉积炉
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图文详情
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产品属性
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HKCVD-1200由开启式单（双）温区管式炉、高真空扩散泵系统、压强控制仪及多通道高数字质量流量控制系统组成。可实现真空达0.001Pa混合气体化学气相沉积和扩散试验。
主要功能和特点：
1、高真空系统由前级双级旋片真空泵和后级扩散泵组成，真空可达0.001Pa；
2、可配合压强控制仪控制气体压力实现负压的精准控制；
3、数字质量流量控制系统是由多路质量流量计，流量显示仪等组成，实现气体的流量的精密测量和控制；每条气体管路均配备高压逆止阀，保证系统的安全性和连续均匀性。
4、采用KF快速法兰密封，装卸方便快捷；管路采用世界Swagelok卡套连接，不漏气；
5、超温、过压时，自动切断加热电源及流量计进气，使用安全可靠。
主要用途和适用范围：
高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD/CVI实验，特别适用于真空镀膜、纳米薄膜材料制备、纳米线生长、电池材料干燥烧结等场所。
技术参数：
| HKCVD-1200 | 本产品通过欧盟CE，保证了设备的运行安全. | |
| 控温方式 | 采用人工智能调节技术，具有PID调节、自整定功能，并可编制30段升降温程序。 | |
| 加热元件 | 0Cr27Al7Mo2 | |
| 工作电源 | AC220V 50HZ/60HZ | |
| 额定功率 | 4KW | |
| 炉管尺寸 | Φ60/Φ80/Φ100* | |
| 工作温度 | ≤ | |
| 温度 | | |
| 恒温 | ± | |
| 加热区长度 | | |
| 升温速度 | ≤ | |
| 密封方式 | 不锈钢快速法兰挤压密封 | |
| HKCVD-1200-K | 真空范围 | 0.1-0.01Pa |
| 极限真空 | 4.0*10^-4Pa | |
| 产品配置 | 双级旋片真空泵+扩散泵 | |
| 测量方式 | 复合真空计 | |
| 真空规管 | 电阻规+电离规 | |
| 冷却方式 | 水冷 | |
| 工作电源 | AC380V 50/60HZ | |
| 抽 速 | | |
| HKCVD-1200-I | 测量范围 | 1*10^5～1*10^-1 Pa |
| 稳压(真空)范围 | 1*10^3～1*10Pa | |
| 压力(真空)稳定 | ±3% | |
| 控制范围 | 2.5*10^3～5*10^-1 Pa | |
| 控制 | ±1% | |
| HKCVD-1200-Ⅲ | 控制方式 | D07-7K质量流量计,D08流量显示仪 |
| 流量规格 | 0－500SCCM /0－1SLM（可根据客户需要配置） | |
| 线 性 | ±1%F.S | |
| 准确度 | ±1%F.S | |
| 重复 | ±0.2%F.S. | |
| 响应时间 | ≤2sec | |
| 耐 压 | 3MPa | |
| 气路通道 | 3通道（根据客户需求） | |
| 针 阀 | 316不锈钢 | |
| 管 道 | Φ | |
| 接 口 | SwagelokΦ | |
产品介绍