1200℃气相沉积炉
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1200气相沉积炉(CVD炉)产品介绍

HKCVD-1200由开启式单(双)温区管式炉、高真空扩散泵系统、压强控制仪及多通道高数字质量流量控制系统组成。可实现真空达0.001Pa混合气体化学气相沉积和扩散试验。

主要功能和特点

1、高真空系统由前级双级旋片真空泵和后级扩散泵组成,真空可达0.001Pa

2、可配合压强控制仪控制气体压力实现负压的精准控制;

3、数字质量流量控制系统是由多路质量流量计,流量显示仪等组成,实现气体的流量的精密测量和控制;每条气体管路均配备高压逆止阀,保证系统的安全性和连续均匀性。

4、采用KF快速法兰密封,装卸方便快捷;管路采用世界Swagelok卡套连接,不漏气;

5、超温、过压时,自动切断加热电源及流量计进气,使用安全可靠。

主要用途和适用范围

高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD/CVI实验,特别适用于真空镀膜、纳米薄膜材料制备、纳米线生长、电池材料干燥烧结等场所。

技术参数:

                                                                                                                                                     
 

HKCVD-1200

 
 

本产品通过欧盟CE,保证了设备的运行安全.

 
 

控温方式

 
 

采用人工智能调节技术,具有PID调节、自整定功能,并可编制30段升降温程序。

 
 

加热元件

 
 

0Cr27Al7Mo2

 
 

工作电源

 
 

AC220V 50HZ/60HZ

 
 

额定功率

 
 

4KW

 
 

炉管尺寸

 
 

Φ60/Φ80/Φ100*1000mm

 
 

工作温度

 
 

1150

 
 

温度

 
 

1200

 
 

恒温

 
 

±1

 
 

加热区长度

 
 

440mm220mm/220mm

 
 

升温速度

 
 

20/min

 
 

密封方式

 
 

不锈钢快速法兰挤压密封

 
 

HKCVD-1200-K

 
 

真空范围

 
 

0.1-0.01Pa

 
 

极限真空

 
 

4.0*10^-4Pa

 
 

产品配置

 
 

双级旋片真空泵+扩散泵

 
 

测量方式

 
 

复合真空计

 
 

真空规管

 
 

电阻规+电离规

 
 

冷却方式

 
 

水冷

 
 

工作电源

 
 

AC380V 50/60HZ

 
 

抽 速

 
 

100L/S

 
 

HKCVD-1200-I

 
 

测量范围

 
 

1*10^51*10^-1 Pa

 
 

稳压(真空)范围

 
 

1*10^31*10Pa

 
 

压力(真空)稳定

 
 

±3%

 
 

控制范围

 
 

2.5*10^35*10^-1 Pa

 
 

控制

 
 

±1%

 
 

HKCVD-1200-

 
 

控制方式

 
 

D07-7K质量流量计,D08流量显示仪

 
 

流量规格

 
 

0500SCCM /01SLM(可根据客户需要配置)

 
 

线 性

 
 

±1%F.S

 
 

准确度

 
 

±1%F.S

 
 

重复

 
 

±0.2%F.S.

 
 

响应时间

 
 

2sec

 
 

耐 压

 
 

3MPa

 
 

气路通道

 
 

3通道(根据客户需求)

 
 

针 阀

 
 

316不锈钢

 
 

管 道

 
 

Φ6mm不锈钢管

 
 

接 口

 
 

SwagelokΦ6mm

 

产品介绍