技术指标：

晶体频率：     6MHz（新晶体）~5MHz

频率分辩率：   0.03Hz

膜厚分辩率：   0.132Å（铝）

膜厚准确度：   0.5％典型，取决于过程条件，特别是传感器的位置，材料应力，温度和密度

频率测量： 0.11Hz

膜厚测量： 0.1Å

速率测量   0.1Å/S

测量速率：     1~10次/S

测量通道数量： 单通道

用户界面：     专用显示仪或连接电脑操作

计算机通讯：   RS232或RS485

外型尺寸：  96 x 45 x 18mm（长x宽x高）

产品特点：       

1、高测量。采用自有知识产权的高测频技术，高集成度。 
   

2、超小型结构：  整机名片盒大小，小巧实用，价格低廉。  

3、具有模拟量输出接口，通过调节仪可对镀膜源进行控制，构建镀膜速率闭环控制系统，对镀膜速率进行控制。 

4、界面友好易操作。连接电脑或显示器操作，操作方便。