主要特点：

1. 可以适用于Si，Ge，GaAs，InP，GaN, InSb，ZnS, GaN, SiC, 金属等的刻蚀

2. 可用于6”wafers

3. 氦气背面冷却

4. 8路气体，O2, SF6，CH4, H2, Cl2, N2, Ar, CHF3