等离子体增强化学气相沉积PECVD，成熟的技术，庞大的装机量，是VLSI（标准样片公司）供应商。有单腔手动方片。性价比很高。特别适合高校和研究单位。
PECVD系统能够沉积高质量SiO2薄膜、Si3N4薄膜、类金刚石薄膜、硬质薄膜、光学薄膜和炭纳米管（CNT）等。可选用射频（RF）、空阴极高密度等离子体(HCD)源、感应耦合等离子体（ICP）源。该公司采用先进技术和稳定可靠的设计为您提供多方位的服务。