手动光刻机，便宜，性能好。
产地；日本
可根据客户具体要求，定制。
适合研发类用户

曝光类型：单面
◆曝光面积：≥φ115mm
◆曝光不均匀性：≤±3%
◆曝光强度：≥20mw/cm2
◆曝光分辨率：1μm
◆曝光模式：可选择曝光或套刻曝光模式
◆扫描范围：X:±40mm   Y:±35mm
◆对准范围：X、Y粗调±3mm、细调±0.3mm Q粗调±15°、细调±3°
◆对准：1μm
◆分离量：0～50μm可调
◆接触－分离漂移：≤1μm
◆密着曝光方式：密着曝光可实现硬接触、 软接触和微力接触曝光；
◆找平机构：三点式自动找平；
◆显微系统：双视场CCD系统，显微镜45X～ 300X连续变倍（物镜1.125X～7.5X），双 物镜距离可调范围：11mm～100 mm，计算机图像处理系统，19″液晶监视器；
◆掩模版尺寸：2.5″×2.5″(或3″×3″) 4″×4″、5″×5″
◆基片尺寸：φ2″、φ3″、φ4″
◆基片厚度：≤5 mm
◆曝光灯功率：直流350W
◆曝光定时：0～999.9秒可调
◆对准方式：切斯曼对准机构
◆曝光头转位：气动
◆电源：单相AC220V 50Hz 功耗≤1kW
◆洁净空气压力：≥0.4Mpa
◆真空度：-0.07MPa～-0.09Mpa
◆尺寸： 920×680×1600(L×W×H)mm；
◆重量：～170kg