NQ光刻机/曝光机的应用领域：
◆LED
◆MEMS
◆IC
◆Mircro-optics
NQ光刻机/曝光机的产品特点：
◆ 采用双面对准技术，可达到0.5微米；
◆ 光刻机的分辨率可达到0.6微米；
◆ 光强均匀度可以达到+/-3%(4英寸)和+/-4%（6英寸）。
◆ 高灵敏度光强可控电源

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