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晶圆清洗机
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武汉迈可诺科技有限公司

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型号：SWC-3000
产地：美国
MYCRO提供美国原装进口的单晶圆片和掩膜的清洗设备，均匀度高和国际水平的兆声清洗解决方案。提供单晶片或者单片掩膜板的清洗，它通过控制声波能量密度来对衬底表面进行无损坏的清洗。表面颗粒的去除可以调整化学试剂的配方成分，使得衬底表面存在少量的颗粒。化学配比系统设计了小的化学试剂的消耗，它提供了程序化的混合方式使化学试剂在衬底表面完全均匀的分布。这个设计也提供了的化学工艺时间的控制，控制超声波去离子水的流量，然后衬底在热氮氛围里旋干。
根据用户的应用需要，某些特定选项将有助于设备去除不想要的颗粒和杂质。
具体应用
清洗功能：
? 晶圆片
? 蓝宝石外延片
? 晶圆框架上的芯片
? 显示面板
? ITO膜显示材料
? 有图形掩膜和无图形掩膜
? 掩膜坯料
? 薄膜式掩膜
? 接触式掩膜
光刻处理工艺：
? SPM剥离
? 光刻胶涂膜
? 光刻胶剥离工艺
刻蚀：
? 金属刻蚀（铝，铜，铬，钛）
白骨化清洗：
? 在晶圆片上注射硫酸和双氧水的混合液
? 红外加热
? 刷洗
? 兆声双氧水清洗
? 热氮和甩干		产品特点：
? 针对21英寸外径或15x15英寸的基底
? 巨声环境清洗舱（可配备去离子水, 清洗刷, 热去离子水, 高压去离子水, 热氮气）
? 化学注射臂
? 带化学喷射的可变速清洗刷
? 触屏用户界面
? 手动上
? 安全锁和报警器
? 占地尺寸30”D x 26”W
可选配项：
? 化学试剂传送单元
? 白骨化清洗
? 臭氧发生器
? 氢化双氧水发生器
? 高压双氧单元
? 硫酸氢过氧化物
? 红外加热
? 双氧水循环装置
? 机械手上单元
? 带EFEM和SMIF界面的 集群系统
去胶/剥离工艺
? 带红外加热的NMP滴胶
? 刷洗
? 兆声双氧水清洗
? 热氮和甩干
CMP溶液清洗：
? 用刷洗和兆声清洗去除CMP颗粒
? 化学喷射臂
? 化学喷射罐
? 为前面和背面刷洗设计的特殊托盘
? 可调速的PVA清洗刷
? 可调的清洗刷/晶圆接触压力
? 刷式化学喷射
带膜/不带膜式掩膜清洗：
? 全套清洗（无需更换保护膜）
? 全保护膜
? 膜式掩膜清洗工艺
1) 掩膜背面清洗后
  • 兆声双氧水清洗
  • 刷式清洗
  • 化学清洗
  • 热氮甩干
2)热氮甩干
SWC系列清洗系统
可选型号：
SWC-3000标准台式兆声清洗，N2旋干

SWC-3000-CCDU台式兆声清洗，N2旋干，带化学试剂分配功能
SWC-3000-M掩膜板台式兆声清洗（3MHz），N2旋干或者红外灯烘干
SWC-4000标准立式兆声清洗，热N2旋干化学配比，酸和溶剂分别独立排放
SWC-4000-M独立的掩膜板清洗机兆声清洗，热N2旋干
化学配比，酸和溶剂分别独立排放
SWC-4000-MP薄膜光刻度板清洗机兆声清洗，热N2旋干
化学配比，酸和溶剂分别独立排放

技术指标：
晶园尺寸：12英寸
掩膜板尺寸：6×6英寸
典型清洗时间：1分钟
标准巨声波频率：1MHz
射频电源输出功率：60W
小DI水流量：1.5L/min
转速：4000RPM
系统控制：PLC程序控制
装载和卸载：手动
氮气烘干温度：300℃
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品牌/商标

MYCRO

企业类型

贸易商

新旧程度

全新

原产地

美国