品牌：Alpha
产地：德国
简介：
德国原装进口Q系列微波等离子处理系统，用于（高剂量注入后）光刻胶的去除，Alpha微波等离子刻蚀机，用于湿法或干法刻蚀工艺前后，Alpha微波等离子区胶机用于SU-8和其它环氧基光胶的去除，Alpha微波等离子去胶机用于微电子机械系统加工中牺牲层去除，Alpha Q150微波等离子去胶机用于去除化学残余物，Alpha微波等离子去胶机用于清除浮渣工艺。
应用领域：
? 半导体硅片生产中光刻胶或SU-8胶工艺
? 平板显示生产中等离子体预处理
? 太阳能电池生产中边缘绝缘和制绒
? 先进晶片（芯片）装配中的衬底清洁和预处理
优势：
? 预处理可避免光刻胶在高剂量离子注入后破裂
? 硬胶的轻柔去除
? 温度为230摄氏度
? Slow temperature ramp – up温升慢
? 高密度激发态原子团
? 工艺时间短
? 的自偏压，低损伤

	Q150	Q235	Q240
样片尺寸	5"	6"	4", 5", 6", 8"
腔室尺寸（mm）	φ150 x 260depth	φ235 x 260depth	φ240x 460depth
处理能力	25x 5"	25x 6"	50x 6", 8"
工艺压力(Pascal)	1-100	1-100	1-100
频率(GHz)	2.45	2.45	2.45
功率(W)	100-600	100-600	100-1200
控制方式	全自动运行	全自动运行	全自动运行
外形尺寸 （WxHxD, mm）	500x370x550	590x460x550	760x775x775
主机重量（kg）	40	70	120
泵重量（kg）	32	32	83
总重量（kg）	72	102	203
总功率 (kW)	2.2	2.6	4.2

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