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产品属性
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一、HMDS真空烤箱的价格、生产HMDS预处理系统技术参数:
电源电压:AC 220V±10%/50Hz±2%
输入功率:2400W
控制系统:进口智能化触摸屏+PLC系统
温度控制器:高、双数显PID控制器
控温范围:室温+10℃-250℃
温度分辨率:0.1℃
温度波动度:±0.5℃
达到真空度:133Pa
容积:90L
工作室尺寸(mm):450*450*450(可选择)
试样架:2块
材质:316L不锈钢
二、HMDS真空烤箱的价格、生产HMDS预处理系统的特点
1)预处理性能更好,由于是在经过数次的氮气置换再进行的HMDS处理,所以不会有尘埃的干扰,再者,由于该系统是将"去水烘烤"和HMDS处理放在同一道工艺,同一个容器中进行,晶片在容器里先经过100℃-200℃的去水烘烤,再接着进行HMDS处理,不需要从容器里传出,而接触到大气,晶片吸收水分子的机会大大降低,所以有着更好的处理效果。
2)处理更加均匀,由于它是以蒸汽的形式涂布到晶片表面上,所以有液态涂布不可比拟更好的均匀性。
3)效率高,液态涂布是单片操作,而本系统可以处理多达4盒的晶片。
4)更加节省药液,
5)更加环保和安全,HMDS是有毒化学药品,人吸入后会出现反胃、呕吐、腹痛、刺激胸部、呼吸道等,由于整个过程是在密闭的环境下完成的,所以不会有人接触到药液及其蒸汽,也就更加安全,它的尾气是直接由机械泵抽到尾气处理机,所以也不会对环境造成污染。
三、HMDS真空烤箱的价格、生产HMDS预处理系统的操作方法:
六甲基二硅胺(HMDS)是黄光区毒的东西,建议使用HMDS真空烘箱,HMDS真空烘箱预处理程序为:打开真空泵抽真空,待腔内真牢度达到某一高真空度后,开始充人氮气,充到达到某低真空度后,再次进行抽真空、充入氮气的过程,到达设定的充入氮气次数后,开始保持一段时间,使硅片充分受热,减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空,充入通过氮气的HMDS气体,在到达设定时间后,停止充入HMDS药液,进入保持阶段,使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后,再次开始抽真空。充入氮气,完成整个作业过程。
HMDS与硅片反应机理圈:首先加热到100℃-200℃,去除硅片表面的水分,然后HMDS与表面的OH一反应,在硅片表而生成硅醚,从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。
尾气排放等:多余的HMDS蒸汽(尾气)将由真空泵抽出,排放到专用废气收集管道。
隽思
制造商
全新
上海