韩国UNILAM （UV光学系统，UV曝光系统）；

紫外线曝光系统

特点：

半导体、阴罩、PCB的PATTAN形成和形象形成作业用设备。

保有形成精巧PATTAN的光学设计技术，光源制作技术。

在半导体晶片工序中使用的短弧光源技术可以构成5um以下的微细回路，

在IT产业中应用于多种用途。

应用范围：

阴罩曝光，

Diaz Film曝光（胶片显相），蚀刻产业，

自动、半自动曝光机。

其中有几大类型：平行曝光光刻系统，LCD治疗照射系统，综合薄膜漫射光照射系统，超大屏幕扫描型紫外曝光系统。