原子层沉积（Atomic Layer Deposition System，ALD)

                 ◆ 先进的粉末样品表面原子层级包覆功能。
                 ◆  前驱体是饱和化学吸附，保证生成大面积均匀性的薄膜；
                 ◆  可以沉积多组份纳米薄层和混合氧化物；
                 ◆  可承受腐蚀性前驱气体。
                 ◆  预留等离子体Plasma-ALD接入口，可根据客户需要进行灵活升级。
                 ◆  独特样品固定台设计，操作便捷，安全可靠。
                 ◆ 将晶片和粉末样品的两个处理仓进行高度整合，合二为一;
                 ◆ 大大提高设备利用率，降低使用成本。
                 ◆ 同时，该系列可以十分方便升级到等离子体ALD系统。