光刻机
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图文详情
产品属性
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采用i线紫外曝光光源,光学系统采用特殊的消衍射和线条陡直增强技术,采用积木错位绳眼透镜实现高均匀照明,并配备了双目双视显微镜和CCD图象对准系统(可同时使用),曝光能量高,聚光角度小,突具厚胶曝光功能,曝光设定采用微机控制,菜单界面友好,操作简便。
技术参数:
曝光面积:110mm×110mm
分辨力:0.8~1μm(胶厚1.5μm的正胶)
对准:±0.6μm
胶厚:600μm(SU8胶)
掩模尺寸:2.5inch、3inch、4inch、5inch
样片尺寸:直径Ф15mm-Ф100mm、厚度0.1mm-6mm
照明均匀性:±3.5%Ф100mm);±5.5%(Ф150mm)
汞灯功率:1000W(直流)
掩模相对于样片运动行程:X: ±5mm; Y: ±5mm; θ: ±6°
外形尺寸:1400mm*1200mm*1850mm
制造商
全新