工业等离子体刻蚀处理系统
价格:电议
地区:上海市
电 话:021-60534450
手 机:18818000445

产品介绍:
PM-II工业等离子体刻蚀处理系统

PM-II是印刷电路板(PCB)制造商的等离子处理系统,等离子体刻蚀处理系统具备高可重复性、可靠性、系统寿命长,维护成本低等特点。 多年来,我们已改进和完善了在处理印刷电路板(PCB)制造领域中使用等离子处理工艺,并开创了许多新工艺方案。

PK-II 工业等离子处理系统具有两项关键技术应用于印刷电路板(PCB)制造。等离子体刻蚀处理系统具有出色的等离子处理效果,快的蚀刻率和较短的等离子处理循环周期时间。

PM-II工业等离子体刻蚀处理系统具有技术优势,如独特的结合工艺温度控制和静电屏蔽的配置组合。 该配置协调工作,获得整个印刷电路板(PCB)板面一致、均匀、可靠的蚀刻率。

工业等离子体刻蚀处理系统纵览

铝制舱体可容纳较大的等离子处理材料体积,我们的标准配置具有少6或多达24个等离子处理支架,每款支架规格61cm X  46cm

氧气服务真空泵和增压器配备有两点吹扫系统,尽量减少腐蚀性副产品产品在其中形成,从而延长了使用寿命,同时降低了维护成本。

工业等离子体刻蚀处理系统特点

等离子处理板材,无论大小,PTFE,聚酰胺,软硬结合电路,你会发现所有这些材料均被均匀地蚀刻,等离子处理完毕以备下一个生产工艺步骤使用。

由于等离子是一个绿色环保的工艺,同时也降低了生产费用,消除不受欢迎的,往往昂贵用于化学蚀刻和清洗的化学废物。简单易用,直观的触摸屏界面提供等离子操作界面,控制等离子刻蚀的各个方面,确保等离子工艺的可靠性和重复性。

P
M-II工业等离子体刻蚀处理系统能够利用树脂涂覆的铜箔技术在多层PCB板上蚀刻3毫米深微孔。工业等离子体刻蚀处理系统可以在高密度驱动器悬浮液(HDD)蚀刻1毫米的聚酰亚胺窗口。PM-II工业等离子体刻蚀处理系统是一款专为蚀刻盘悬浮液及微孔。

工业等离子体刻蚀处理系统规格

标准工业等离子体刻蚀处理系统特点
等离子处理支架:68121624套水平支架,每套支架规格61cm X  46cm,间距3.8cm
射频电源:1250~5000@13.56MHz射频电源,自动匹配网络;
真空舱静电屏蔽,促进??蚀刻均匀性;
工艺过程温度控制:677摄氏度~1649摄氏度,避免过温循环;
工艺气体控制:20-2000 CC /分钟 质量流量控制器 MFC
气压监控:低气压工艺气体机吹扫气体报警器;
真空监测系统:MKS电容式真空计0-10托;
控制器系统:微处理器控制系统/触摸屏界面; (多3阶段)菜单存储功能;
真空泵浦系统:爱德华兹(Edwards)氧气服务真空泵 ,配备爱德华兹Edwards)罗茨式增压器鼓风机; 3微米真空泵油过滤芯,2点自动氮气N2吹扫; 真空泵排气油雾凝聚式过滤器

工业等离子体刻蚀处理系统其它可选功能
基于Windows的计算机控制系统/触摸屏接口
数据记录、事件查看和打印
信号灯塔
爱德华兹(EdwardsGV80干式真空泵
MKS
真空节气门控制器
多达4套质量流量控制器
工艺控制气体转向矩阵,5路工艺气体输入切换矩阵控制
可控N2(氮气)真空舱吹扫流量
定制真空舱室尺寸和设置
定制电极尺寸和设置

工业等离子体刻蚀处理系统可选配套设备
冷却水再循环闭环
烟气洗涤塔填料床
压缩空气干燥机(真空泵吹扫气体发生器)

工业等离子体刻蚀处理系统规格
等离子刻蚀系统外部尺寸:218cm X 200cm X 60cm
真空泵外部尺寸: 41cm X  76cm X 43cm

工业等离子体刻蚀处理系统设备外部安装要求
电源:220/1/50
压缩空气:0.55~0.70 MPa14/分钟
系统环境温度:29摄氏度
工艺气体:0.17~0.21MPa,
射频电源冷却水源:7.5/分钟流量

如果您对GIK工业等离子体刻蚀处理感兴趣,请联系我们索取更详尽资料!
极科有限公司
(
材料科学部)


品牌/商标

GIK工业等离子体刻蚀处理系统

企业类型

制造商

新旧程度

全新

原产地

原装进口工业等离子体刻蚀处理系统

等离子处理支架:

:6、8、12、16、24套水平“支架,每套支架规格61cm X 46cm,间距3.8cm

射频电源:

1250~5000瓦@13.56MHz射频电源,自动匹配网络;

工艺过程温度控制:

677摄氏度~1649摄氏度,避免过温循环;

工艺气体控制:

2套0-2000 CC /分钟 质量流量控制器 (MFC);

控制器系统:

微处理器控制系统/触摸屏界面; 多(多3阶段)菜单存储功能;