产品介绍：PM-III双真空舱等离子处理系统
高产出等离子处理系统

PM-III双真空舱等离子处理系统是PM-II工业等离子体刻蚀处理系统容量的两倍， 但系统占地面积较小。 如果需要高产量，该PM-III双真空舱等离子处理系统配备双真空舱室，每个真空舱室配备24套处理支架，双真空舱可以通行运行，或是单独工作。PM-III双真空舱等离子处理系统基于PM-II工业等离子体刻蚀处理系统建造。

PM-III双真空舱等离子处理系统纵览
铝制舱体可容纳较大的等离子处理材料体积，我们的标准配置具有少6或多达24个等离子处理支架，每款支架规格61cm X  46cm。

氧气服务真空泵和增压器配备有两点吹扫系统，尽量减少腐蚀性副产品产品在其中形成，从而延长了使用寿命，同时降低了维护成本。

PM-III双真空舱等离子处理系统特点
两个巨大的全铝真空舱室容纳一个宽大等离子处理表面，M-III双真空舱等离子处理系统标准配置24套等离子处理支架位于每个真空舱内。 每个等离子处理支架可使用等离子清洗区高达61cm X 46cm。

等离子处理板材，无论大小，PTFE，聚酰胺，软硬结合电路，你会发现所有这些材料均被均匀地蚀刻，等离子处理完毕以备下一个生产工艺步骤使用。

PM-III双真空舱等离子处理系统产品规格

标准PM-III双真空舱等离子处理系统特点
等离子处理支架：6、8、12、16、24套水平“支架，每套支架规格61cm X  46cm，间距3.8cm
射频电源：1250~5000瓦@13.56MHz射频电源，自动匹配网络；
真空舱静电屏蔽，促进??蚀刻均匀性；
工艺过程温度控制：677摄氏度~1649摄氏度，避免过温循环；
工艺气体控制：2套0-2000 CC /分钟 质量流量控制器 （MFC）；
气压监控：低气压工艺气体机吹扫气体报警器；
真空监测系统：MKS电容式真空计0-10托；
控制器系统：微处理器控制系统/触摸屏界面；多（多3阶段）菜单存储功能；
真空泵浦系统：爱德华兹（Edwards）氧气服务真空泵 ，配备爱德华兹Edwards）罗茨式增压器鼓风机； 3微米真空泵油过滤芯，2点自动氮气N2吹扫； 真空泵排气油雾凝聚式过滤器

PM-III双真空舱等离子处理系统其它可选功能
基于Windows的计算机控制系统/触摸屏接口
数据记录、、事件查看和打印
信号灯塔
爱德华兹（Edwards）GV80干式真空泵
MKS真空节气门控制器
多达4套质量流量控制器
工艺控制气体转向矩阵，5路工艺气体输入切换矩阵控制
可控N2(氮气)真空舱吹扫流量
油雾分离器
定制电极尺寸和设置

PM-III双真空舱等离子处理系统可选配套设备
冷却水再循环闭环
烟气洗涤塔填料床
无热压缩空气干燥机（吹扫气体发生器）

PM-III双真空舱等离子处理系统规格
双真空舱等离子处理系统外部尺寸：305cm X 201cm X 114cm
真空泵外部尺寸： 41cm X  76cm X43cm

PM-III双真空舱等离子处理系统设备外部安装要求
电源：220/1/50
压缩空气:0.55~0.70 MPa，14升/分钟
系统环境温度：29摄氏度
工艺气体：0.17~0.21MPa,
射频电源冷却水源：7.5升/分钟流量

如果您对该双真空舱等离子处理系统兴趣，请随时联系我们。

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