过去，硬质合金机用丝攻表面涂层采用高温化学气相沉积（HTCVD）工艺。在常压或负压的沉积系统 中，将纯净的H2、CH4、N2、TiCl4、AlCl3、CO2等气体根据沉积物的成分，按一定配比均匀混和，依次涂到具备一定温度（一般为 1000~1050℃）的硬质合金刀片表面，即在机用丝攻表面沉积TiC、TiN、TiCN、Al2O3或者它们的复合涂层。直到现在，HTCVD仍是使用 多的工艺方法，除HTCVD外，还有等离子体化学气相沉积（PCVD）工艺，它是在硬质合金机用丝攻表面涂层的另一种方法，因这种涂层工艺温度较低 （700~800℃），故刀片的抗弯强度降低。因为TiC与基体材料的线膨胀系数接近，通常用TiC薄层先涂在基体表面上，外面再涂TiN、 Al2O3，如TiC/TiN、TiC/Al2O3、TiC/TiCN/TiN等。
后来，发展了各种不同组合的多层涂层。笔者在多次展览会上调查和统计了瑞典、德国、美国、日本、韩国、以色列和中国各公司的CVD涂层硬质合金刀片 产品，涂层材料有以下组合：TiCN/Al2O3、TiCN/TiC/TiN、TiCN/TiC/Al2O3、TiCN/Al2O3/TiN、TiCN /TiC/Al2O3/TiN、TiCN/Al2O3/TiCN、TiN,TiC/TiCN/TiN、TiN/TiCN/TiN等。可以看出，近年多用 TiCN或TiN作底层，这是因为基体硬质合金有了改进，例如采用了梯度结构，才有可能用TiCN或TiN垫底。此外，TiN涂层不宜单独使用，因为与硬 质合金相比，TiN的硬度提高不多，TiN必须与TiC、TiCN、Al2O3等组合使用。
     早 期，PVD涂层均采用“真空蒸镀法”，膜层往往不均匀，与基体的结合不够牢固，后发展了“真空磁控溅射法”和“真空等离子镀工艺”，效果很好。现在机用丝攻表 面涂层主要用后两种方法。
早年，PVD涂层只用于高速钢机用丝攻，涂层材料几乎只用TiN一种。后来，改进了涂层工艺，发展了多种涂层 材料和多层涂层，在硬质合金机用丝攻上也得到了大量的应用。涂层效果比以往大有进步。TiN涂层材料仍在使用，新兴的涂层材料是TiAlN和AlTiN，其使 用效果优于TiN。
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