CX51半导体检测显微镜介绍：     

工业显微镜广泛应用于半导体,电子工业进行晶体,集成电路的检验和科学研究.配备有反射照明,成象和观察系统,偏光装置.Industrial  microscope  is  widely  used  for  crystal,  integrated  circuit  (IC)  examination

and  research.  It  is  supplied  with  reflected  illumination,  imaging  and  viewing  system,  
polarized  imaging  system.规格  Specifications  无限远光学系统,管镜焦距200mm Infinitive  Optical  System,  Tube  Lens  Focal  Length  200mm铰链式三目镜筒,30°倾斜,  瞳距55-75mmCompensation  Free  Trinocular  Tube,  Inclined  at  30°,  Interpupillary  Distance  55-75mm高眼点,大视场目镜WF10X/22High  Point  and  Wide  Field  Eyepiece  WF10/22长工作距离,平场复消色差物镜
2X/0.055,  5X/0.14,  10X/0.28,  20X/0.29,  50X/0.42 Long  Working  Distance,  Plan  Apo  Objectives  2X/0.055,  5X/0.14,  10X/0.28,  20X/0.29,  50X/0.42五孔物镜转换器Quintuple  Nosepiece6″双层活动平台和圆平台6″Double  Layers  Mechanical  Stage  and  circle  stage同轴粗微调焦机构,微动格值0.002mmCoaxial  Coarse  &  Fin  Focus  Adjustment  System,   Fine  Division  0.002mm照明系统  Illumination  System冷光源光纤反射照明器:12V150WCold  Light  Fiber  Reflected  Illnminator:  12V150W金相显微镜