无接触硅片厚度TTV电阻率综合测
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产品介绍 PV-1000系列无接触硅片厚度TTV电阻率综合测试系统为太阳能/光伏硅片及其他材料提供快速、多通道的厚度、(总厚度变化)TTV、翘曲及无接触电阻率测量功能。并提供基于TCP/IP的数据传输接口及基于Windows的控制软件,用以进行在线及离线数据管理功能。 无接触硅片综合测试系统-产品特点  使用MTI Instruments独有的推/拉电容探针技术
每套系统提供多三个测量通道
可进行、小、平均厚度测量和TTV测量
可进行翘曲度测量(需要3探头)
用激光传感器进行线锯方向和深度监视(可选)
集成数据采集和电气控制系统
为工厂测量提供快速以太网通讯接口,速率为每秒5片
可增加的直线厚度扫描数量
与现有的硅片处理设备有数字I/O接口
基于Windows的控制软件提供离线和在线的数据监控
提供标准及客户定制的探头
提供基于Windows的动态链接库用于与控制电脑集成
用涡电流法测量硅片电阻率
无接触硅片综合测试系统-技术指标  晶圆硅片测试尺寸:50mm- 300mm. ■   厚度测试范围:1.7mm,可扩展到2.5mm. ■   厚度测试:+/-0.25um ■   厚度重复性:0.050um ■   测量点直径:8mm  TTV 测试:  +/-0.05um
 TTV重复性: 0.050um ■   弯曲度测试范围: +/-500um [+/-850um] ■   弯曲度测试: +/-2.0um ■   弯曲度重复性: 0.750um 电阻率测量范围:5-2000ohm/sq(0.1-40ohm-cm)
电阻率测量:2% 电阻率测量重复:1% 晶圆硅片类型:单晶或多晶硅 材料:Si,GaAs,InP,Ge等几乎所有半导体材料 可用在:切片后、磨片前、后,蚀刻,抛光以及出厂、入厂质量检测等 平面/缺口:所有的半导体标准平面或缺口 硅片安装:裸片,蓝宝石/石英基底,黏胶带 连续5点测量   应用范围  > 切片 >>线锯设置     >>>厚度       >>>总厚度变化TTV      >>监测 >>>导线槽 >>>刀片更换 >磨片/刻蚀和抛光 >> 过程监控 >> 厚度 >>总厚度变化TTV >> 材料去除率 >> 弯曲度 >> 翘曲度 >> 平整度 > 研磨 >> 材料去除率 > 终检测 >> 抽检或全检 >>  终检厚度

典型客户
美国,欧洲,亚洲及国内太阳能及半导体客户。