ETInLineSys是根据镀膜机在线高测量要求，专门研发的椭偏测量系统，在此系统中，椭偏测量部件与镀膜机集成为一体。    ETInLineSys可用于真空热蒸发镀膜机、离子溅射镀膜机、原子层沉积镀膜机等多种原理的镀膜机。可在线测量光滑平面基底上的纳米薄膜，包括单层或多层纳米薄膜样品的膜层厚度、折射率n和消光系数k；并可测量块状材料的折射率n和消光系数k。      ETInLineSys融合量拓科技在高激光椭偏仪的先进设计技术和椭偏产品制造方面的经验，性能稳定、可靠。

特点:

• 快速在线镀膜样品测量可对样品进行快速在线监测，实时反馈镀膜的真实信息。
• 系统可选的灵活配置根据用户实际检测需求，可灵活选用激光椭偏仪、光谱椭偏仪部件等进行系统配置。
• 原子层量级的膜厚分析采用非接触、无破坏性的椭偏测量技术，对纳米薄膜达到极高的测量准确度和灵敏度，膜厚测量灵敏度可达到0.05nm。
• 简单方便安全的仪器操作用户利用测量软件可方便地进行实时监测，丰富的模型库、材料库方便用户进行测量设置。

应用:

      ETInLineSys适合于多种镀膜机在线纳米薄膜的测量。

  ETInLineSys可用于测量纳米薄膜样品上单层或多层纳米薄膜层构样品的薄膜厚度、折射率n及消光系数k；

  ETInLineSys可用于测量块状材料的折射率n及消光系数k；

  ETInLineSys可应用于：

• 真空离子蒸发镀膜机 
• 薄磁控溅射镀膜机量
• ALD原子层沉积镀膜机
• MBE分子束外延镀膜机
• PLD激光溅射沉积镀膜机
   

技术指标:

项目	技术指标
系统型号	ETInLineSys
结构类型	在线式
探头形式	激光椭偏仪或光谱椭偏仪
膜厚测量重复性（1）	0.1nm (对于Si基底上100nm的SiO2膜层)
折射率n测量重复性（1）	5x10-4  (对于Si基底上100nm的SiO2膜层)
样品放置	镀膜机内
入射角度	根据实际设计
测量速度	对于激光椭偏仪，典型0.2s~0.6s
软件	多语言见面切换预设项目供快捷操作使用运安全的权限管理模式（管理员、操作员）方便的材料数据库以及多种色散模型库丰富的预设模型数据库

   注：（1）测量重复性：是指对标准样品上同一点、同一条件下连续测量30次所计算的标准差。

性能保证

• 高性能器件、高的采样方法，保证了系统的高准确度
• 稳定可靠的结构设计，保证了系统的长期稳定性
• 与镀膜机集成式的一体化设计集成式的结构设计，使得系统操作简单、整体稳定性提高
• 的在线软件设计以及丰富的物理模型库和材料数据库，方便用户使用

可选配件：

•  NFS-SiO2/Si二氧化硅纳米薄膜标片
•  NFS-Si3N4/Si氮化硅纳米薄膜标片