SU9000新型超高分辨冷场发射扫描电镜
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产品介绍

详细信息

  日立2011年新推出了SU9000超高分辨冷场发射扫描电镜,达到扫描电镜世界二次电子分辨率0.4nm和STEM分辨率0.34nm。日立SU9000采取了全新改进的真空系统和电子光学系统,不仅分辨率性能明显提升,而且作为一款冷场发射扫描电镜甚至不需要传统意义上的Flashing操作,可以高效率的快速获取样品超高分辨扫描电镜图像。


特点:
1. 新型电子光学系统设计达到扫描电镜世界分辨率:二次电子0.4nm(30KV),STEM 0.34nm(30KV)。
2. Hitachi设计的E×B系统,可以自由控制SE和BSE检测信号。
3. 全新真空技术设计使得SU9000冷场发射电子束具有超稳定和高亮度特点。
4. 全新物镜设计显著提高低加速电压条件下的图像分辨率。
5. STEM的明场像能够调整信号检测角度,明场像、暗场像和二次电子图像可以同时显示并拍摄照片。
6. 与FIB兼容的侧插样品杆提高更换样品效率和高倍率图像观察效率。

项目技术指标
二次电子分辨率0.4nm (加速电压30kV,放大倍率80万倍)
1.2nm (加速电压1kV,放大倍率25万倍)
STEM分辨率0.34nm(加速电压30kV,晶格象)
观测倍率底片输出显示器输出
LM模式80~10,000x220~25,000x
HM模式800~3,000,000x2,200~8,000,000x
样品台侧插式样品杆
样品移动行程X±4.0mm
Y±2.0mm
Z±0.3mm
T±40度
标准样品台平面样品台:5.0mm×9.5mm×3.5mmH
截面样品台:2.0mm×6.0mm×5.0mmH
专用样品台截面样品台:2.0mm×12.0mm×6.0mmH
双倾截面样品台:0.8mm×8.5mm×3.5mmH
信号检测器二次电子探测器
TOP 探测器(选配)
BF/DF 双STEM探测器(选配)

品牌/商标

日立

企业类型

制造商

新旧程度

全新

原产地

日本