产品名称：经济型台式光刻机

产地：美国

名称

能力

数值

基片台

X, Y方向运动距离

+/-0.25”(+/-6.5mm)

Z方向运动距离

1500微米

测微计

0.001”; 0.0001”

刻度

0.01mm; 0.001mm

旋转

+/-3.5°

光罩

尺寸

5”×5” ~ 9”×9”

光源

直径

8”

对准1微米

曝光强度可控能力+/-2%

功率

200 ～ 2000W

尺寸

高940mm；宽788mm；深635mm；重量250磅

能力

数值

X, Y方向运动距离

+/-6.5mm

Z方向运动距离

+/-1250微米

运动增益

0.25微米，小可达0.1微米

X, Y方向侧向偏离度

Z方向运动100微米偏离度小于0.1微米

Theta;

+/-3°；0.001°

卡盘找平

楔形补偿平衡系统

光罩旋转

+/-15°

光罩和基片间压力

可以自行设置

光刻模式

靠近、软接、硬接和真空接触

预对准能力

是

精对准能力

小于1微米

光罩尺寸

9”×9”

光刻能力：

0.6微米（近紫外）；0.4微米（中紫外）；0.25微米（深紫外）

适用样品尺寸

50 ～ 200mm