Q150T的机壳是整体成型的结构坚固耐用，配有气冷的70L/S的涡轮分子泵，自动进气控制保证了溅射期间的真空水平，真空腔室直径为165mm(6.5英寸)并带有防爆装置。Q150T具有“真空闭锁”功能，可在设备不工作时维持腔室的真空度，从而保证高真空的性能。

根据不同的应用方向，Q150T细分为三个型号：

l        Q150TS：高分辨率溅射镀膜仪，可溅射易氧化和不易氧化金属，可选各种溅射靶材，包括场发射电镜常用的铱和鉻。

l        Q150TE：高真空镀碳仪，可制作高稳定的碳膜和表面覆形膜，是TEM应用理想的选择。

l        Q150TES：集合了离子溅射和热蒸镀两种真空沉积镀膜方式，镀膜头可在几秒内快速更换，只能逻辑系统自动识别所装的镀膜头类型，并显示相应的操作模式。

注：上述各型号都可配备如下可选的附件：金属蒸镀、碳丝蒸镀、膜厚测量等

触摸屏控制：

Q150T操作十分简单，直观的触摸屏，即使不熟练的操作者也可以自由操作，同时可方便的键入和存储数据。为了方便使用，设备中已经预存一些了典型的溅射和蒸发镀膜参数资料。

镀膜插入头选项：

具有一系列可互换、即插即用的镀膜插入头

l        溅射插入头适用于易氧化和不易氧化金属材料。直径57mmX0.3mm厚鉻靶为标准靶材。

l        可用另外的溅射插入头来快速更换镀膜材料（仅为TS和TES型号）

l        适用于3.05mm碳棒蒸发插入头

l        适用于6.15mm碳棒蒸发头，建议使用3.05mm直径的碳棒，它们更容易控制、更经济。

l        碳丝蒸发插入头

l        金属蒸发和光阑洁净头，包括向上蒸发或向下蒸发（仅为TE和TES型号）

样品台选项

Q150具有各种易更换的样品台，drop-in   落入式设计具高度可调（除旋转行星台）。

·标准配置为旋转台, 直径为50mm

·可预设倾斜角度的旋转台（可选）

·可变角度旋转行星台（可选）

·可用于4〞晶圆的平面旋转台（可选）

·显微镜载玻片样品台（可选）

其它选项

·用于高样品的加高腔室

·膜厚监测器（FTM）

·用于测量低和高真空的全范围真空计（皮拉尼真空计）

Q150T全自动镀膜系统技术指示：

工作腔室：150mm（内径）*127mm（高）硼硅酸盐玻璃腔室，并带整体安全防护罩

触摸屏用户界面：带有触摸按钮的全图像界面，包含多达十个镀膜程序，可提醒何时需要维护。

样品台：转速为8-20rpm的旋转台

真空系统：

涡轮子分子泵：带有内部空气却的涡轮分子泵，抽速为70L/s

旋转机械泵：抽速为50L/m的两级旋转机械泵，带有油污过滤器

真空测量：皮拉尼真空计作为标配，可选全量程真空计（10428）

极限真空度：10^-5mbar两级

溅射工作真空范围：5*10^-3到5*10^-1mbar

工艺参数：

溅射：0-150mA。可预设膜厚（需FTM选项）或使用内置定时器。

碳蒸发：稳定的无纹波直流电源控制的脉冲蒸发，确保源自碳棒或碳丝的可重复蒸碳。

电流脉冲：1-90安培

金属蒸发和光阑清洁头：用于源自钨丝篮或舟的金属热蒸发。可配备一个标准钼舟用于清洁SEM或TEM光阑。

金属蒸发头被安装用于向下蒸发，但向上蒸发也能通过配装两个延长电极（可提供）而获得。

Services and other information：

气体：溅射工作气体氩气，99.999%（TS和TES版本）；氮气，放气破真空气体（可选）

电源需求：90-250V~50/60Hz 1400VA 包括旋转机械泵；110/240V可选择电压

尺寸：仪器机箱585mm宽*470mm*410mm高(总高650mm)

仪器总重量：33.4KG

溅射靶材和碳耗材供应：Q150S和Q150TES标配铬靶，但可选用的其它靶材范围很宽，包括那些广泛用于SEM制样的靶材，如：Au金靶，Au/pd金钯，Pt铂靶，和Iridium铱靶。对非SEM应用，可选用的靶材包括：AI铝，Ta钽，ITO氧化铟锡，Fe铁，W钨，Ti钛，等等：碳制品包括高纯度碳棒和碳丝纤维。