半导体晶圆、光学薄膜 膜厚测量仪 FE-300 （日本OTSUKA牌）
价格：电议
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手 机：13798387721
传 真：86 0755 82047767
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图文详情
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产品属性
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产品特色：
薄膜到厚膜的宽测量范围。
利用反射率光谱解析膜厚。
功能齐全，低价格並不影响高测量的表现。
设定与操作的简易化，短时间內即可上手。
提供价格优惠的固定平台与可自动对位平台两种规格。
非线性小二乘法、PV法、FFT法等多种膜厚测量手法。
以非线性小二乘法、解析光学常数(n:折射率，k:衰减系数)。
测量项目：
反射率分析 |
多层膜解析(5层) |
光学常数解析（n:折射率，k:衰减系数） |
应用范围：
■光学薄膜(AR膜、ITO膜等)
■半导体晶圆(光阻、SOI、SiO2等)
规格样式：
| 手动型 | 自动型 | ||
对应样品尺寸 | 200mm× 200mm | φ300mm | ||
对应膜厚 | 厚膜 | 薄膜 | 厚膜 | 薄膜 |
膜厚测量范围 | 100nm～40μm | 10nm～20μm | 100nm～40μm | 10nm～20μm |
波长测量范围 | 400nm～800nm | 300nm～800nm | 400nm～800nm | 300nm～800nm |
膜厚*1 | ±0.5nm | ±0.5nm | ±0.5nm | ±0.5nm |
测量再現性*2 | ±0.05nm | ±0.03nm | ±0.05nm | ±0.03nm |
测量时间 | 0.1s～10s以內 | 0.1s～10s以內 | ||
测量口径 | 约φ 1.2mm | 约φ 1.2mm | ||
自动对位功能 | 无 | 无 | 有 | 有 |
测量实例：
■PET基板上的DLC膜
■Si基板上的SiNx