硬件独特性:双屏显示设计，造型时尚，带多节点预启动装置和实时监控系统；已集成计算机，无需再外接电脑，计算机采用触屏设计，操作流畅便捷；加装自动防辐射泄漏装置，主动性的保证使用人员安全；内置打印机，计算方便快捷；独具短信报错功能，操作是否符合规范一目了然；超高的分辨率可轻松解决贵金属行业无损分析的任何复杂要求，为贵金属行业性价比的光谱仪。（咨询廖）

软件优越性：XRF8.0菜单式软件，带硬件参数调整和数据评估及计算系统；软件除能显示金属百分比纯度外，亦可显示黄金K值；软件可自动重复检测，自动测算多次检测的均值；计算的打印格式多样化，完全满足客户各种形式的打印要求。

激发源：Mo靶的X光管 风冷 (无辐射）

探测器：Si-PIN 探测器(美国) 

高压装置：美国进口高压装置

其它规格：

电压：交流220V/50Hz
功率:144W
处尺寸:430mm*635mm*310mm
重量:21kg

技术指标：

分析范围：0.001% ～ 99.999%
测量时间：自适应
测量：± 10ppm ～ 0.1%

分辨率  ：149Kev ± 5
测试环境：常温常态
分析元素：除贵金属常含元素和铱、锇等铂族重金属能全面测试外，该型号还能对从Na至U的70多种元素进行分析，实为贵金属行业常量分析中的实验室级光谱仪。
X射线源：X射线光管
高压器：0～50Kv
操作系统:Windows2000/Me/XP

镀层测量：

镀层厚度范围<30μm
测量层数：5层
测量：0.03μm