美国Proto Flex公司PECVD(等离子增强化学气相沉积)系统能够沉积高质量SiN、SiO、SiO2薄膜、Si3N4

薄膜、非晶硅、碳化硅、太阳能材料、类金刚石、类金刚石薄膜、硬质薄膜、光学薄膜等多种薄膜材料

和炭纳米管（CNT）等。可选用射频（RF）、空阴极高密度等离子体(HCD)源、感应耦合等离子体（ICP）

源。该公司采用先进技术和稳定可靠的设计为您提供多方位的服务。