高光谱椭偏仪！荣获 the award of Best of Boston and Best of Braintree for Optical Instruments and Apparatus!

可以测量折射指数、消光系数（n & K)，膜厚等，广泛适用于半导体、电介质、聚合物、金属等材料，单层薄膜和多层膜。客户包括US Army Research Lab，NASA，NIST，UC Berkeley，MIT，Harvard，Honeywell和Sharp Microelectronics等；

根据客户需求，可提供不同型号：

变角度单波长椭偏仪（632.8nm）；

变角度多波长椭偏仪（532, 632.8, 1064nm, …）；

变角度光谱椭偏仪（深紫外、紫外-可见-近红外光谱190-2300nm）；

全自动变角度光谱椭偏仪（深紫外、紫外-可见-近红外光谱190-2300nm）；

红外光谱椭偏仪等；

膜厚范围：0-30000nm
折射指数：± 0.0001
厚度准确度：± 0.01nm
入射角度：20 - 90°
波长范围：250-1100nm（深紫外、近红外、红外可选）
Psi=±0.01°，Delta=±0.02°

光谱范围：UV/VIS range 250 - 1100 nm，可选扩展光谱范围NIR (700 - 1700 nm) or (700 - 2100 nm)、UV-VIS 范围(190 - 1100 nm) ；

自动旋转起偏器可测量任意偏振状态；

步进扫描分析仪可高速采集低噪音信号；

可变角度范围：from 10-90°，可升级为自动变角度10-90°控制 ；

单层薄膜/多层薄膜快速薄膜厚度、折射率测量；

测试软件可大范围Psi和Delta数据自动测量，并对测试数据进行采集和分析，内置几百种材料数据库；

可扩展二维自动扫描平台，实现(50X50mm, 100X100mm, 150X150mm or 200X200mm)Mapping测量功能以及3D分析；

荣获 the award of Best of Boston and Best of Braintree for Optical Instruments and Apparatus!