TDC-200膜层控制仪在线测量和控制镀膜的速率和膜层的厚度，具有闭环控制沉积速率，与光学控制设备配合使用，可完成复杂的光学镀膜。本仪器可以控制单层或多层膜的沉积，通过对沉积工艺的数字化控制，大幅提高镀膜的质量和可重复性。可使用全自动模式来完成复杂膜系的制备，同时又提供了半自动和手动的控制方式，与自动化程度不同的镀膜设备协同工作。   ▲ 配置     TDC-200膜层控制仪可支持标准单探头、带挡板单探头和带挡板双探头。     TDC-200膜层控制仪配备了RS-232工业标准通信接口，配合本公司提供的计算机控制软件，方便用户在计算机上进行膜系编程，通过计算机进行数据采集和数据分析，实现远程控制。用户也可根据本公司提供的通信协议进行二次开发，在自行设计的软件中集成测量和控制功能，可方便地实现系统集成。     TDC-200膜层控制仪具有16个独立输入/输出端口。具有两个高的源控制电压输出，以配合有两个源的真空镀膜设备，特别是在进行多层镀膜时，大大提高了控制,进而提高镀膜质量。 ▲ 编程     TDC-200型膜层控制仪采用全中文人机操作界面,易于使用。配备256x128大型图形点阵LCD，低功耗LED背光，整屏显示内容多，并支持滚屏，用户编程和操作方便快捷。       TDC-200膜层控制仪具有5个可编程工艺膜系，每个工艺膜系多能设定99层，共计495个膜层。包含一个267种材料的材料参数库，其中已定义的材料为257种，未定义的材料10种，可由用户自行设定。 ▲ 功能     TDC-200膜层控制仪提供给用户厚度、速度、功率等实时数据，以便用户可以对实时数据进行分析，并提供速度曲线和功率曲线，通过观察过程曲线了解镀膜情况，方便用户迅速找到的控制工艺。    TDC-200膜层控制仪采用闭环控制技术稳定材料的沉积速率，与光学控制设备配合使用时，可配合光学测量系统测量膜层的光学厚度，用来补偿物理厚度和光学厚度之间的偏差，可以满足复杂的光学镀膜工艺要求。     在镀膜过程中，当晶片无效时，TDC-200膜层控制仪能自动设定中断，并启动切换程序，控制双探头系统，待晶片切换成功后，继续恢复镀膜，以确保多层镀膜工艺连续性。      规格

测量 频率计算  0.03Hz(在6.0MHz) 频率显示  0.01Hz 测量速率        10Hz 显示 厚度显示      000000?～999999? 速率显示      000.0～999.9 ?/s 功率显示      00.0～99.9% 时间显示      00:00:00～23:59:59（时:分:秒）图形显示      256x128LCD，低功耗LED背光 存储能力 膜系            40个层               每膜系99层，共3960层材料库         已定义257种材料，用户可再定义                   10种材料 通讯 通讯接口      标配RS-232串行口 WINDOWS软件  选配

控制能力 膜系               40 层/膜系            01～99 源                   1～2 坩埚                1～12 探头规格 标准单探头带挡板单探头（可选）带挡板双探头（可选） 探头数量              可支持2路 源电压输出范围    0～±2.5V                            0～±5V                            0～±10V 输出能力          16个继电器,2A 输入能力          16个隔离通道,可接入交直流                         信号 供电要求          220V（±5%），50Hz，功率                        ≤40W 工作温度          0℃～50℃ 仪器尺寸          135 x 480x360mm(高x宽x                        深)，可用于19’标准工业机架 仪器重量          5.5Kg