全自动重量法蒸汽吸附仪(真空版)
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产品属性
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使用真空吸附解决方案的优点 在Henry 区域动态填模式下进行低吸附压力实验,提供了两个关键优势: 确定吸附物的成份 静态系统在进行低吸附压力时会使少量空气渗漏进入样品仓,随着时间推移会稀释吸附物分子。样品仓的总压力开始成为溶剂与渗漏空气的总合。因此实际的吸附物浓度要远比系统传感器显示的结果低,导致实验结果不准确。 使用DVS Vacuum 动态模式可以确保不断消除渗漏的空气,并由吸附物取而代之。因此样品仓内总的测量压力都由吸附分子组成,在Henry区域提供的实验浓度也就是准确的。 滞留时间的控制 DVS Vacuum 在宽广的流动速率的范围内,达到稳定的状态。可控制样品被吸附停留的时间,提供足够的吸附物/基质接触以使得测量数据准确如孔大小分布和吸附动力学。 | 在静态条件下(A)和动态条件下(B)的吸附分子和 基质。不同的条件下测量出的吸附压力将是相同的。 |
1.温度控制器 ■ 实验温度设置范围可以是20℃-85℃ 1a.高温样品预热器(可选)可以在高真空条件下将样品预热达400℃ 2.真空系统 ■ 2a.回转泵 可将真空降至 1.3x10-3mbar 2b.分子泵(可选) 进一步将真空低至7x10-6mbar(与回转泵组合) 2c.蝶阀 调整气体/蒸汽吸附物从系统中减少的比率 通过样品仓提供一个下游压力控制点 2d & 2e.气体/蒸汽压力传感器 测量与反馈气体/蒸汽吸附压力, 范围:1013mbar - 0.1mbar 3.真空 manifold ■ 主要构件都采用316不锈钢 | 4.气体/蒸汽注射系统 ■ DVS真空系统可以利用一种气体或蒸汽, 两种气体或蒸汽,一种气体和一种蒸汽的混合, 提供多种浓度的水、有机蒸汽和气体的浓聚物。 4a - 4f.上游吸附压力控制 热导质量流量控制器(MFCs – 4a and 4b)掌控着吸附的进入。 下游吸附压力控制 吸附减少率由下游蝶阀控制(2c)。 5.系统微量天平 ■ 吸附物在吸附临界解吸附的记录值作为样品质量 样品质量:高过 1.0g 分辨率:0.1 μg 质量变化:高达±150mg 6.电脑控制和软件 ■ 控制实验参数和连续记录并保存数据以便日后数据分析 |