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VEGAPULS 61
配有塑封天线系统的雷达传感器,用于连续物位测量(K-频段)
特别适用于测量腐蚀性液体,或用于开口容器或渠道。
优势
- 探头材料: PVDF 或 PP
- 可以测量至距离天线下缘50mm的地方
- 测量 ±5 mm
- ECHOFOX-信号分析处理,采用先进的模糊逻辑
- 通过 PLICSCOM, HART-编程器或计算机调试
- 属于plics产品系列
测量范围 达 20 米
过程连接 G1 1/2A螺纹, 龙门框或法兰
过程温度 -40 ... 80°C
过程压力 -1 … +3 bar (-100 … +300 kPa)
测量 ±5 mm
发射频率 K-频段
VEGAPULS 62
配有喇叭口天线、抛物线天线或?"- 导波管天线的雷达传感器,用于连续物位测量(K-频段)
适用于存储容器或过程容器,可以在恶劣条件下测量几乎所有介质。
优势
- 非接触是测量,不受过程温度、过程压力和过程气体的限制
- 可以测量至距离天线下缘50mm的地方
- 测量 ±3 mm
- ECHOFOX-信号分析处理,采用先进的模糊逻辑
- 通过 PLICSCOM, HART-编程器或计算机调试
- 属于plics产品系列
测量范围 达 35 米
过程连接 螺纹或法兰
过程温度 -40 ... 200°C
过程压力 -1 … +40 bar (-100 … +4000 kPa)
测量 ±3 mm
发射频率 K-频段
VEGAPULS 63
配有塑封天线系统的雷达传感器,用于连续物位测量 (K-频段)
特别适用于测量腐蚀性强的介质,或用于卫生无菌要求高的环境。
优势
- 用于探测的材料只有一种
- 可以测量至距离天线下缘50mm的地方
- 测量 ±3 mm
- ECHOFOX-信号分析处理,采用先进的模糊逻辑
- 通过 PLICSCOM, HART-编程器或计算机调试
- 属于plics产品系列
测量范围 达 20 米
过程连接 法兰或卫生连接
过程温度 -200…150°C
过程压力 -1 … +16 bar (-100 … +1600 kPa)
测量 ±3 mm
发射频率 K-频段
VEGAPULS 65
配有棒式天线系统的雷达传感器,用于连续物位测量 (C-频段)
特别适用于小的过程连接,在较为简单的过程条件下测量腐蚀性液体。
优势
- 探头材料: PVDF 或 PTFE
- 可以测量至距离天线下缘100mm的地方
- 测量 ±10 mm
- ECHOFOX-信号分析处理,采用先进的模糊逻辑
- 通过 PLICSCOM, HART-编程器或计算机调试
- 属于plics产品系列
测量范围 达 35 米
过程连接 G1 1/2A螺纹或法兰
过程温度 -40 ... 150°C
过程压力 -1 … +16 bar (-100 … +1600 kPa)
测量 ±10 mm
发射频率 C-频段
VEGAPULS 66
配有喇叭口天线或2”导波管天线的雷达传感器,用于连续物位测量(C-频段)
特别适用于在极端复杂的过程条件下进行测量。
优势
- 非接触是测量,不受过程温度、过程压力和过程气体的限制
- 可以测量至距离天线下缘100mm的地方
- 测量 ±10 mm
- ECHOFOX-信号分析处理,采用先进的模糊逻辑
- 通过 PLICSCOM, HART-编程器或计算机调试
- 属于plics产品系列
测量范围 达 35 米
过程连接 法兰
过程温度 -40 ... 400°C
过程压力 -1 … +160 bar (-100 … +16000 kPa)
测量 ±10 mm
发射频率 C-频段
VEGAPULS 67
配有塑封天线系统的雷达传感器,用于连续固料料位测量(K-频段)
特别适用于测量固体料位,料仓高度可达15米。
优势
- 非接触式测量,不受粉尘和风送入料的限制
- 测量 ±15 mm
- ECHOFOX-信号分析处理,采用先进的模糊逻辑
- 通过 PLICSCOM, HART-编程器或计算机调试
- 属于plics产品系列
测量范围 达 15 米
过程连接 龙门框或锁紧法兰
过程温度 -40 ... 80°C
过程压力 -1 … +2 bar (-100 … +200 kPa)
测量 ±15 mm
发射频率 K-频段
VEGAPULS 68
配有喇叭口天线或抛物线天线的雷达传感器,用于连续测量固体料位 (K-频段)
特别适合测量固体料位,通过万向节可以调整天线方向,以适用于不用形状的料仓,并对准料面。
优势
- 非接触式测量,不受粉尘和风送入料的限制
- 测量 ±15 mm
- ECHOFOX-信号分析处理,采用先进的模糊逻辑
- 通过 PLICSCOM, HART-编程器或计算机调试
- 属于plics产品系列
测量范围 达70 米
过程连接 G1 1/2A螺纹或法兰
过程温度 -40 ... 200°C
过程压力 -1 … +40 bar (-100 … +4000 kPa)
测量 ±15 mm
发射频率 K-频段
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