1)        制样方法：快速机械抛光，无需砂纸、无需电解；

2)        制样速度： 3-4分钟；

3)        照明方式：LED光源，DC 4.2V；

4)        主机连续工作时间： 40小时；

5)        亮度调节方式：无极调节。

6)        调焦系统：同轴粗微调结构；

7)        镜体现场适应性：镜体大小和观测方向可以根据现场环境自由调节；并能在三维空间自由旋转；

8)        吸附材质要求：任何材质均可吸附，可依附于铁磁性和非磁性物体表面之上；

9)        吸附形状要求：底部带V型槽，能吸附于各种大小的管道(如Φ38㎜、Φ57㎜、Φ159㎜、Φ219㎜等)之上。

10)    自锁装置：特殊的螺杆移位结构，保证磁座在吸附于竖立表面时不自滑；

11)    底座磁力大小：100Kg吸附力，倒吸于天花板也不会跌落

12)    移动行程：X轴行程10mm、Y轴行程10mm、z轴行程22mm；

13)    镜头指标：分划目镜10X    视场范围18mm，带刻度，平场消色差物镜10X NA0.25，平消色差物镜20X NA0.45，平场消色差物镜50X NA0.75；

14)    显微镜输入电压：AC 220V  输出DC4.2V；

15)    抛磨机大小： 微型电机，转速平稳，

16)     微型抛磨机转速：35000转/分，无极调速

17)     微型抛磨机供电方式：直流0-30V，交流220V均可使用；

18)     拋磨机电源容量：8.7万毫安时

19)     拋磨机电源工作电压：输入直流33.6V，输出0-30V，无极调节；

20)     拋磨机电源重量：1kg，

21)     拋磨机电源尺寸：120X85X235mm

22)     拋磨机电源连续工作时间：连续工作时间8小时

23)     备用的交流电源工作电压：，输入：AC 220V  输出DC0-30V，

24)     拋磨机微型电源运转方向：能正反转；

25)     专用金相打磨盘粒度及尺寸： 120目，直径20mm，

26)     专用金相打磨盘材料及切削力：由专用材料制作，可免去常规金相制样中打磨工序；

27)     专用金相抛光盘粒度及尺寸： 1600目，直径20mm，

28)     专用金相打磨盘材料及切削力：由专用材料制作，可免去常规金相制样中抛光工序；

29)     静态图像采集方法：采用奥林巴斯E-PL3微型单反相机，屏幕可旋转，可遥控拍摄，1200万像素；8M存储；

30)     静态适配器倍率：内置10倍目镜，转接数码相机与显微镜；

31)     显微图像动态采集方法：采用PTI-DC510显微动态采集器，500万像素，遵循USB2.0标准(480Mbits/sec)。可控制捕获图像的任意幅面与位置，小的幅面可以获得更高的帧率。?可控制缩放预览。?黑白?彩色预览可选。?自动?手动白平衡操作。?手动?自动曝光，自带通用版图像处理软件，具有图像融合、图像拼接、自带标尺等功能。

32)     动态适配器倍率：，内置10倍目镜，转接图像采集器与显微镜，视野范围接近目镜观测范围

33)     图像处理方法：采用I3以上笔记本电脑，能实现现场金相实施预览、现场金相图像的采集与分析；

34)     软件分析方法: 软件自动分析，具有300多项分析功能；

35)     仪器大小及重量：全套仪器小巧轻便，可装载于小包，肩背至高空。仪器包外围尺寸400X220X260mm，重量6kg（包括含磁座主机、抛光打磨设备、电源部分、拍照系统全套）。