非接触式光学三坐标测量仪
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View Micro-Metrology非接触式光学三坐标测量仪的详细介绍
View Micro-Metrology非接触式光学三坐标测量仪(VMM)是一家的AOI光学检测设备供应商，生产适合过程控制测量应用的全自动高影像三坐标测量系统和显微量测系统。
View Micro-Metrology非接触式光学三坐标测量仪以其独特的固定双倍放大倍率光学系统、卓越的光源性能、强大灵活的软件系统、先进的机动运行控制以及非线性偏差修正技术而专长。其高速度、高的测量性能持续受到全世界客户的追崇，有效控制了客户的成本支出。
加工制造和装配持续朝着微型化、自动化发展，同样，检测技术也日趋要求高、高速度的检测测量方案。很多测量技术都能提供高测量，但仅有部分能把准确的测量和高产能商化于一体。然而View Micro-Metrology非接触式光学三坐标测量仪却将现代检测需要的这一苛刻检测性能要求集于一体，满足全自动高速的过程测量应用。View Micro-Metrology非接触式光学三坐标测量仪以结果证明其言行，View以其可追述至美国国家标准技术研究院NIST的可靠的性能和服务于世界60多个国家，以所测得数据回馈客户，将客户风险降至，有效控制成本！测量仪器，View Micro-Metrology非接触式光学三坐标测量仪是您正确的选择伙伴，您会体会到与众不同的优势！
View Micro-Metrology非接触式光学三坐标测量仪适用范围：
- 半导体封装、
- SMT组装、装配
- 丝网印刷、PCB
- BGA&QFP、Bump on die、solder paste
- 引线架Leadframes、探针卡
- LED封测
- 光纤、
- photomask、MEMS
- 晶圆级检测、测量等应用。
- 1976年推出世界台高速影像测量光学三坐标；
- 花岗岩铸铁基底平台，稳定可靠，运动平稳；
- 全鼠标、手柄操作，简单易用；
- 亚微米分辨率
- 全自动寻边功能
- 固定双倍率光学镜头，1X/4X高低倍率瞬时切换，无需变焦，重复性高
- 1:10~1：50亚像素分辨率，保证高重复性和准确的弱边寻边
- 程控彩色环形表面光源PRL，LED轮廓光源，同轴光源，角度和方向可调控，增强表面检测性能
- 的Rochi自动聚焦技术，增强Z轴聚焦性能
- 独特的Z轴测高功能，可加装激光测头
- VMS全自动可编程影像测量、数据分析软件，多种输出方式（CAD、notepad、excel）
Pinnacle 250
◆ 测量系统尺寸(W x D x H)：795 x 953 x 1750 mm
◆ 线性马达控制
◆ 测量：E2 (XY) = (2.0 + 5L/1000)um，
E1 (Z-axis) = (3.0 + 5L/1000)um
L：测量长度mm
◆ 1/10~1/50的亚像素, 2.5X标配镜头(低倍2.5X，高倍10X)
◆ 光源：LED背光、LED同轴表面光
◆ 承载力：25kg
适用于：微小、紧公差工件，高密度、复杂特征尺寸部件，如精密冲压件以及芯片级封装等。
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Benchmark 250 紧凑型台式系统
◆ 测量范围(XYZ)：300 x 150 x 150 mm
◆ 分辨率：0.5um
◆ 测量系统尺寸(W x D x H)：720 x 775 x 873 mm
◆ 伺服马达控制
◆ 测量：E2 (XY) = (2.0 + 5L/1000)um，
E1 (Z-axis) = (3.0 + 5L/1000)um
L：测量长度mm
◆ 1/10~1/50的亚像素, 1.0X标配镜头(低倍1.0X，高倍4X)
◆ 光源：LED背光、LED同轴表面光
◆ 承载力：25kg
适用于：注塑部件、机械部件、电子元件组装、半导体封装、光纤器件、磁盘介质基板、记录芯片或 150mm 以内的晶圆产品。
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Benchmark 450 中行程测量系统
◆ 测量范围(XYZ)：450 x 450 x 200 mm
◆ 分辨率： 0.5um
◆ 测量系统尺寸(W x D x H)：1210 x 1140 x 1700 mm
◆ 伺服马达控制
◆ 测量：E2 (XY) = (2.5 + 5L/1000)um，
E1 (Z-axis) = (3.5 + 5L/1000)um
L：测量长度mm
◆ 1/10~1/50的亚像素, 1.0X标配镜头(低倍1.0X，高倍4X)
◆ 光源：LED背光、LED同轴表面光
◆ 承载力：65kg
适用：注塑部件、丝网印刷模具、印刷电路板、焊锡膏环氧胶点、精密机械部件
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Summit 450/600/800
◆ 测量范围(XYZ)：450 x 450 x 150 mm
◆ 分辨率： 0.1um
◆ 测量系统尺寸(W x D x H)：1016 x 1650 x 1930 mm
◆ 伺服马达控制、线性马达驱动
◆ 测量：E2 (XY) = (2.0 + 6L/1000)um，- E1 (Z-axis) = (1.5 + 5L/1000)um
L：测量长度mm
◆ 1/10~1/50的亚像素, 2.5X标配镜头(低倍2.5X，高倍10X)
◆ 光源：LED背光、LED同轴表面光
◆ 承载力：50kg
Summit 适用于: 较高需求的大型部件，如锡膏丝网印刷、艺术品、PCB、柔性电路以及微蚀刻部件。
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View Micro-Metrology可选配件：
◆ 物镜：0.8x, 1.0x, 5x, 10x
◆ 光源： 多颜色（红、绿、蓝）可编程环形光PRL
◆ Rochi Grid自动聚焦
◆ 透镜激光光源TTL
◆ Digital megapixel camera
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View Micro-Metrology(VMM)显微测量系统MicroLine 和Precis200 主要用于测量半导体、MEMS 晶圆、光刻掩模板等尺寸和涂覆物(多层套刻、圆、对接误差等)量测。
MicroLine-300是一款桌上型手动操作全自动CD测量系统。
主要技术参数：
◆ 测量范围(XYZ)：200×200×25mm；
◆ 视场内测量：0.010um(100X 镜头)；
◆ 视场内测量范围：0.5um~400um；
◆ 视场内 测量重复性(100x 物镜)：晶圆上<0.010um(1δ)；
掩模板上0.005um(1δ)；
◆ 标配镜头10x，可选镜头：5X, 20X, 50X, 100X
◆ 可视化自动聚焦
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全新的Precis? 200是基于Micro-Metric的Innova晶圆量测系统开发而来，采用了VMM 公司先进的设计和技术。
主要技术参数：
◆ 测量范围(XYZ)：200×200×5mm；
◆ 测量：E2 (XY plane) = 0.25 + 2L/1000
◆ 直流伺服马达驱动
◆ 分辨率0.01um
◆ 视场测量和重复性：0.01 μm (100x)；
- Precis 主要用于以下应用：
- 亚微米测量：
◆ 微器件和电子元器件封装、引线框
◆ 微型球状引脚栅格阵列封装
◆ 硬盘驱动臂、探针卡、刀片
- CD 和套刻测量：
◆ 线宽、涂覆层
◆ MEMS 器件、接触窗、喷墨打印头
◆ 硬盘驱动头、磁头等
For more details, pls refer to : www.viewmm.com
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