美国NANOVEA公司的三维光学轮廓仪

三维光学轮廓仪(3D Profiling)

该仪器采用白光轴向色差原理（性能优于白光干涉轮廓仪与激光干涉轮廓仪）对样品表面进行快速、重复性高、高分辨率的三维测量，测量范围可从纳米级粗糙度到毫米级的表面形貌，台阶高度，给MEMS、半导体材料、太阳能电池、医疗工程、制药、生物材料，光学元件、陶瓷和先进材料的研发和生产提供了一个的、价格合理的计量方案

这款产品凭借其当今世界前端的技术,迅速占领国内外市场,

产品特性：

1 采用白光轴向色像差技术，可获得纳米级的分辨率

2 测量具有非破坏性，测量速度快，度高

3 测量范围广，可测透明、金属材料，半透明、高漫反射，低反射率、抛光、粗糙材料(金属、玻璃、木头、合成材料、光学材料、塑料、涂层、涂料、漆、纸、皮肤、头发、牙齿…)；

4 尤其适合测量高坡度高曲折度的材料表面

5  不受样品反射率的影响

6  不受环境光的影响

7  测量简单，样品无需特殊处理

8  Z方向测量范围为27mm

美国NANOVEA公司是一家公认的在微纳米尺度上的光学表面轮廓测量技术的，生产的光学轮廓仪是目前国际上用在科学研究和工业领域先进表面轮廓测量设备，该公司在光学设计、精密机械和科学软件算法方面，拥有长期不断发展的技术，由于这些专门技术的应用，NANOVEA为生产和质量控制的研究和发展提供精密准确的全方位解决方案。

NANOVEA的表面测量系统适用于研发和生产过程控制中的定性和定量测量，其部件达到纳米尺度的创新的光学设计，其强大且友好的软件控制使所需获得的数据不仅速度快，而且高，并提供了多种不同的表面分析方法，与系统匹配的软件包含参数设定(如扫描尺寸、线数、步进、转换台速度、数据采样速度)和数据后处理功能(如Abbott-Firestone曲线、快速傅立叶变换、自相关功能、三维成像、二维切片成像等)，可以定量地测量表面粗糙度及关键尺寸，诸如晶粒、膜厚、孔洞深度、长宽、线粗糙度、面粗糙度等，并计算关键部位的面积和体积等参数。

垂直测量范围：27mm

垂直分辨率：<2nm

扫描速度1m/s

横向分辨率：5nm

可视区域：400*600mm